[发明专利]一种氟硼吡咯光敏剂及其合成方法

权利要求书

1.一种氟硼吡咯光敏剂，其通式如下：

R=-CN、-N(CH₂CH₃)₂、-NO₂。

2.权利要求1所述氟硼吡咯光敏剂的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

1）氟化硼二吡咯的合成

将0.02mol苯甲酰氯溶解于300ml二氯甲烷中，在氮气保护下加入2,4-二甲基吡咯0.02mol，室温下搅拌过夜，在冰浴中将20ml三乙胺和20ml三氟化硼·乙醚注射进混合液中，搅拌过夜，在减压下蒸去溶液得粗产物，粗产物溶于二氯甲烷，用饱和碳酸钠和水洗涤，萃取有机相，用无水硫酸钠减压下干燥，用柱色谱提纯，得到氟化硼二吡咯；

2）β位碘代氟化硼二吡咯的合成

步骤1所得产物氟化硼二吡咯1mmol与N-碘代丁二酰亚胺4mmol混合溶解于80ml二氯甲烷中，室温下搅拌过夜，减压蒸去溶剂，粗产物用柱色谱提纯，得到β位碘代氟化硼二吡咯；

3）目标氟硼吡咯光敏剂的合成：β位碘代氟化硼二吡咯3,5位衍生物的合成

将β位碘代氟化硼二吡咯0.09mmol与苯甲醛类化合物0.36mmol，如对氰基苯甲醛、对硝基苯甲醛或4-二乙胺基苯甲醛，溶解于5ml N’N-二甲基甲酰胺（DMF）中，冰醋酸、哌啶快速滴加进反应液中，150℃氩气气氛下微波反应15min，产物经水洗涤除去溶剂，抽滤，滤饼溶解于二氯甲烷中，减压蒸去溶剂，粗产物用柱色谱提纯，得到氟硼吡咯光敏剂。

3.权利要求1所述氟硼吡咯光敏剂在光催化1,4-二氢吡啶芳构化中的应用。

4.一种氟硼吡咯光敏剂，其通式如下：

R=-CN、-N(CH₂CH₃)₂、-NO₂。

5.权利要求4所述氟硼吡咯光敏剂的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

1）氟化硼二吡咯的合成

将0.02mol苯甲酰氯溶解于300ml二氯甲烷中，在氮气保护下加入2,4-二甲基吡咯0.02mol，室温下搅拌过夜，在冰浴中将20ml三乙胺和20ml三氟化硼·乙醚注射进混合液中，搅拌过夜，在减压下蒸去溶液得粗产物，粗产物溶于二氯甲烷，用饱和碳酸钠和水洗涤，萃取有机相，用无水硫酸钠减压下干燥，用柱色谱提纯，得到氟化硼二吡咯；

2）β位碘代氟化硼二吡咯的合成

步骤1所得产物氟化硼二吡咯1mmol与N-碘代丁二酰亚胺4mmol混合溶解于80ml二氯甲烷中，室温下搅拌过夜，减压蒸去溶剂，粗产物用柱色谱提纯，得到β位碘代氟化硼二吡咯；

3）目标氟硼吡咯光敏剂的合成：β位碘代氟化硼二吡咯3号位衍生物的合成

将β位碘代氟化硼二吡咯0.09mmol与苯甲醛类化合物0.09mmol，如对氰基苯甲醛、对硝基苯甲醛或4-二乙胺基苯甲醛，溶解于5ml N’N-二甲基甲酰胺（DMF）中，冰醋酸、哌啶快速滴加进反应液中，150℃氩气气氛下微波反应15min，产物经水洗涤除去溶剂，抽滤，滤饼溶解于二氯甲烷中，减压蒸去溶剂，粗产物用柱色谱提纯，得到氟硼吡咯光敏剂。

6.权利要求4所述氟硼吡咯光敏剂在光催化1,4-二氢吡啶芳构化中的应用，光催化产率可达94%以上。