[发明专利]二极管、ESD保护电路及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410033871.3 申请日: 2014-01-24
公开(公告)号: CN103972303B 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 高在赫;金汉求;高民昌;金昌洙;全暻基 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06;H01L29/40;H01L27/02;H01L21/329;H01L21/28;H01L21/8249
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 薛义丹;韩芳
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 二极管 esd 保护 电路 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种二极管,所述二极管包括:

N型阱区域,设置在N型外延层中;

P型漂移区域,设置在N型外延层中,其中,P型漂移区域与N型阱区域分隔开;

阴极电极,包括第一电极和N型掺杂区域,其中,N型掺杂区域电结合到第一电极,N型阱区域仅包括N型掺杂区域并且不包括P型掺杂区域,第一电极设置在N型外延层上;

阳极电极,包括P型掺杂区域,其中,P型掺杂区域设置在P型漂移区域中;以及

隔离结构,设置在P型漂移区域中,其中,隔离结构设置在N型阱区域和P型掺杂区域之间,

其中,阴极电极的第一电极与隔离结构的一部分叠置,

其中,第一电极对应于P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的栅极,

其中,二极管的N型阱区域对应于P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的N型阱区域,二极管的P型漂移区域对应于P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的P型漂移区域,二极管的P型掺杂区域对应于P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的漏极区域,二极管的隔离结构对应于P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的隔离结构。

2.根据权利要求1所述的二极管,所述二极管还包括:

层间介电层,设置在第一电极和N型外延层上;

第一垂直接触,贯穿层间介电层并且结合到N型掺杂区域;

第二垂直接触,与第一垂直接触分隔开,贯穿层间介电层并结合到N型掺杂区域;

第三垂直接触,贯穿层间介电层并且结合到第一电极;

第四垂直接触,贯穿层间介电层并且结合到所述P型掺杂区域;以及

第二电极,设置在层间介电层上并且结合到第一电极、第一垂直接触和所述第二垂直接触。

3.根据权利要求2所述的二极管,其中,阴极电极的第一电极掺杂有N型掺杂剂。

4.根据权利要求1所述的二极管,其中,在N型阱区域中没有设置与P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的源极区域相对应的P型掺杂区域,以及

其中,阴极电极的N型掺杂区域延伸至与P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的源极区域相对应的区域。

5.根据权利要求1所述的二极管,其中,N型外延层设置在半导体基底上。

6.根据权利要求5所述的二极管,所述二极管还包括:

P型阱区域,设置在N型外延层中,

其中,P型漂移区域设置在P型阱区域中。

7.根据权利要求5所述的二极管,所述二极管还包括:

N型埋层,设置在半导体基底的上部中,

其中,N型外延层设置在N型埋层上。

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