[发明专利]辐射生成器、防散射栅格及辐射成像装置

权利要求书

1.一种辐射生成器，包括：

辐射源，其包括放射性同位素并被配置为生成辐射；

第一开口，其被配置为使所生成的辐射之中的在指定方向上照射的辐射通过，

其特征在于，所述辐射生成器还包括：

会聚器，其被配置为将从所述辐射源照射的辐射会聚到所述第一开口中，

发散器，其具有在离开所述第一开口的方向上增大的截面并且发散已通过所述第一开口的辐射；以及

其中，所述辐射源位于所述会聚器内部，并且所述会聚器的截面在朝着所述第一开口的方向上变小。

2.如权利要求1所述的辐射生成器，其中，在所述指定方向上照射的辐射是在所述会聚器的会聚角内照射的。

3.如权利要求1所述的辐射生成器，其中，所述会聚器包括：

第一构件，其被配置为阻挡在与物体相反的方向上照射的辐射；以及

第二构件，其被配置为围绕所述第一构件并被配置为将在指定方向上照射的辐射引导向所述物体。

4.如权利要求3所述的辐射生成器，其中，所述第一构件和所述第二构件中的至少一个包括吸收照射的辐射的材料。

5.如权利要求1所述的辐射生成器，还包括：

准直器，其被配置为打开所述第一开口以控制照射到物体上的辐射。

6.如权利要求5所述的辐射生成器，其中，所述准直器被配置为在与所述第一开口平行的方向上水平移动以便控制照射到所述物体上的辐射的量。

7.如权利要求5所述的辐射生成器，其中，所述准直器被配置为以所述辐射生成器的中心轴为基准旋转以便控制照射到所述物体上的辐射的量。

8.如权利要求5所述的辐射生成器，其中，所述准直器包括第二开口，该第二开口被配置为使通过了所述第一开口的辐射通过。

9.如权利要求5所述的辐射生成器，其中，所述准直器包括对于辐射具有第一辐射吸收量的第一区域和对于辐射具有不同于所述第一辐射吸收量的第二辐射吸收量的第二区域。

10.如权利要求1所述的辐射生成器，其中，所述辐射源生成X射线。

11.如权利要求1所述的辐射生成器，其中，通过所述发散器指向物体的辐射是在所述会聚器的会聚角和所述发散器的发散角中较小的那个之内照射的。

12.一种辐射成像装置，包括：

如权利要求1所述的辐射生成器；以及

辐射检测器，其包括多个像素，其中所述多个像素中的每一个检测穿透了物体的辐射。

13.如权利要求12所述的辐射成像装置，还包括：

防散射栅格，其位于所述物体与所述辐射检测器之间并且被配置为去除从辐射源照射的散射的辐射。

14.如权利要求13所述的辐射成像装置，其中，通过了所述防散射栅格的辐射会聚在所述辐射生成器上。

15.如权利要求13所述的辐射成像装置，其中，所述防散射栅格包括：

多个辐射路径，所述多个辐射路径使辐射通过以允许辐射入射到所述辐射检测器上；以及

多个屏障，所述多个屏障将所述多个辐射路径划分成二维(2D)栅格并且阻挡在所述多个辐射路径之间行进的辐射，

其中，所述多个辐射路径二维地排列在与所述多个像素之一相对应的区域中。

16.如权利要求15所述的辐射成像装置，其中，所述多个辐射路径中的至少一个被填充以所述辐射穿透的材料。

17.如权利要求15所述的辐射成像装置，其中，所述多个辐射路径中的至少一个的截面在朝着所述辐射检测器的方向上变大。