[发明专利]辐射生成器、防散射栅格及辐射成像装置

说明书

相关专利申请的交叉引用

本申请要求2013年1月23日在美国专利商标局递交的61/755,749号美国临时申请和2013年5月15日在韩国知识产权局递交的10-2013-0055281号韩国专利申请的优先权，这里通过引用将这些申请的公开内容全部并入。

技术领域

符合示范性实施例的方法和装置涉及生成辐射的辐射生成器（radiation generator）、去除散射的辐射的防散射栅格（anti-scatter grid）以及包括辐射生成器和防散射栅格中的至少一者的辐射成像装置。

背景技术

辐射成像装置将预定量的辐射照射到物体上，例如照射到身体等上，并且测量穿透该物体的辐射。通过辐射检测器测量辐射以便计算物体的每个点的辐射吸收率以将辐射吸收率形成为图像。为此，辐射成像装置在各种角度执行二维（2D）辐射成像以获得一个点处的图像。

特别地，对于当在各种角度执行辐射成像时具有更简单结构的辐射生成器已进行了研究。另外，已研究了获取更清楚的辐射图像的方法。

发明内容

前述和/或其他方面可通过提供一种生成辐射的辐射生成器、一种去除散射的辐射的防散射栅格和一种包括该辐射生成器和该防散射栅格中的至少一者的辐射成像装置来实现。

一示范性实施例提供了一种具有简单结构的辐射生成器。

一示范性实施例还提供了一种去除散射的辐射的防散射栅格。

一示范性实施例还提供了一种包括该辐射生成器和该防散射栅格中的至少一者的辐射成像装置。

根据该示范性实施例的一方面，提供了一种辐射生成器，包括：辐射源， 其包括放射性同位素并被配置为生成辐射；第一开口，其被配置为使所生成的辐射之中的在指定方向上照射的辐射通过；以及会聚器，其被配置为将从辐射源照射的辐射会聚到第一开口中。

在指定方向上照射的辐射可以是在会聚器的会聚角内照射的。

辐射源可位于会聚器内部，并且会聚器的截面可在朝着第一开口的方向上变小。

会聚器可包括：第一构件，其被配置为阻挡在与物体相反的方向上照射的辐射；以及第二构件，其被配置为围绕第一构件并被配置为将在指定方向上照射的辐射引导向物体。

第一构件和第二构件中的至少一个可包括吸收照射的辐射的材料。

辐射生成器还可包括：准直器，其被配置为打开第一开口以控制照射到物体上的辐射。

准直器被配置为在与第一开口平行的方向上水平移动以控制照射到物体上的辐射的量。

准直器被配置为以辐射生成器的中心轴为基准旋转以便控制照射到物体上的辐射的量。

准直器可包括第二开口，该第二开口被配置为使通过了第一开口的辐射通过。

准直器可包括对于辐射具有第一吸收量的第一区域和对于辐射具有不同于第一辐射吸收量的第二吸收量的第二区域。

在示范性实施例的一方面中，辐射源可生成X射线。

辐射生成器还可包括：发散器（diverger），其具有在离开第一开口的方向上增大的截面并且发散已通过第一开口的辐射。

在示范性实施例的一方面中，通过发散器指向物体的辐射可在会聚器的会聚角和发散器的发散角中较小的那个之内照射。

根据示范性实施例的另一方面，提供了一种辐射成像装置，包括：辐射生成器；以及辐射检测器，其包括多个像素，其中所述多个像素中的每一个检测穿透了物体的辐射。

辐射成像装置还可包括：防散射栅格，其位于物体与辐射检测器之间并且被配置为去除从辐射源照射的散射的辐射。

在示范性实施例的一方面中，通过了防散射栅格的辐射可聚焦在辐射生 成器上。

防散射栅格可包括：多个辐射路径，它们使辐射通过以允许辐射入射到辐射检测器上；以及多个屏障（barrier），它们将多个辐射路径划分成二维（2D）栅格并且阻挡在多个辐射路径之间行进的辐射。多个辐射路径可二维地排列在与多个像素之一相对应的区域中。

多个辐射路径中的至少一个可被填充以辐射穿透的材料。

多个辐射路径中的至少一个的截面可在朝着辐射检测器的方向上变大。

根据示范性实施例的另一方面，提供了一种去除散射的辐射的防散射栅格。该防散射栅格可包括：多个辐射路径，它们使辐射通过以入射在检测辐射的像素上；以及多个屏障，它们将多个辐射路径划分成二维（2D）栅格并且阻挡在多个辐射路径之间行进的辐射。多个辐射路径可二维地排列在与多个像素之一相对应的区域中。