[发明专利]图案形成方法、剥离方法、磁记录介质的制造方法、磁记录介质、以及压模的制造方法在审
申请号: | 201410035861.3 | 申请日: | 2014-01-24 |
公开(公告)号: | CN104424965A | 公开(公告)日: | 2015-03-18 |
发明(设计)人: | 泷泽和孝;木村香里;竹尾昭彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84;G03F7/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 段承恩;杨光军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 形成 方法 剥离 记录 介质 制造 以及 | ||
1.一种图案形成方法,包括:
在基板上形成被加工层的工序;
向包含贵金属微粒子和第1溶剂的第1分散液,添加包含高分子材料和第2溶剂的第2分散液,制作分散有被该高分子材料被覆了的微粒子的贵金属微粒子层涂布液的工序,所述高分子材料包含在末端具有贱金属的高分子链;
使用该贵金属微粒子层涂布液,在被加工层上使被该高分子材料被覆了的贵金属微粒子排列而形成贵金属微粒子层的工序;和
向被加工层转印基于该贵金属微粒子层的凹凸图案的工序。
2.根据权利要求1所述的方法,还包括在向被加工层转印基于所述贵金属微粒子层的凹凸图案的工序之后,除去所述贵金属微粒子层的工序。
3.根据权利要求1或者2所述的方法,其特征在于,所述贵金属微粒子包含选自金、银、铂、钌、钯和铱中的至少1种。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述贵金属微粒子具有包含芯和壳的芯-壳结构,所述芯包含选自金、银、铂、钌、钯和铱中的至少1种,所述壳设置于该芯上,且包含选自碳、硅、铝、钛、铬、锰、钴、镍、铜、铁、锌、锆、铌、铪、钽、钨、铋、胺化合物、磷、硫、氟、氯、溴和碘中的贱金属。
5.根据权利要求1或者2所述的方法,其特征在于,吸附于所述贵金属微粒子的高分子材料,在其高分子链的至少一方的末端具有包含贱金属的官能团,并且,在其他方的末端具有与所述第2溶剂亲合的官能团。
6.根据权利要求1或者2所述的方法,其特征在于,所述高分子材料包含选自聚乙烯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸酯、聚丁二烯、聚异戊二烯和聚丙烯中的主链。
7.一种剥离方法,包括:
调制包含高分子材料和第2溶剂的第2分散液的工序,所述高分子材料包含在末端具有贱金属的高分子链;和
对于排列于被加工层上的贵金属微粒子,应用所述第2分散液,用该高分子材料被覆该贵金属微粒子表面,并且使该高分子链与该贵金属微粒子表面亲合,使该金属微粒子从该被加工层上脱离的工序。
8.根据权利要求7所述的方法,还包括在向被加工层转印基于所述贵金属微粒子层的凹凸图案的工序之后,除去所述贵金属微粒子层的工序。
9.根据权利要求7或者8所述的方法,其特征在于,所述贵金属微粒子包含选自金、银、铂、钌、钯和铱中的至少1种。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述贵金属微粒子具有包含芯和壳的芯-壳结构,所述芯包含选自金、银、铂、钌、钯和铱中的至少1种,所述壳设置于该芯上,且包含选自碳、硅、铝、钛、铬、锰、钴、镍、铜、铁、锌、锆、铌、铪、钽、钨、铋、胺化合物、磷、硫、氟、氯、溴和碘中的贱金属。
11.根据权利要求7或者8所述的方法,其特征在于,吸附于所述贵金属微粒子的高分子材料,在其高分子链的至少一方的末端具有包含贱金属的官能团,并且,在其他方的末端具有与所述第2溶剂亲合的官能团。
12.根据权利要求7或者8所述的方法,其特征在于,所述高分子材料包含选自聚乙烯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸酯、聚丁二烯、聚异戊二烯和聚丙烯中的主链。
13.一种磁记录介质的制造方法,包括:
在基板上形成磁记录层的工序;
在该磁记录层上形成掩模层的工序;
向包含贵金属微粒子和第1溶剂的第1分散液,添加包含高分子材料和第2溶剂的第2分散液,制作分散有被该高分子材料被覆了的贵金属微粒子的贵金属微粒子层涂布液的工序,所述高分子材料包含在末端具有贱金属的高分子链;
使用该涂布液,在该掩模层上使被高分子材料被覆了的该贵金属微粒子排列而形成贵金属微粒子层的工序;
向掩模层转印基于该贵金属微粒子层的凹凸图案的工序;和
向该磁记录层转印该凹凸图案的工序。
14.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,所述贵金属微粒子包含选自金、银、铂、钌、钯和铱中的至少1种。
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