[发明专利]一种镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种镀膜装置。

背景技术

磁控溅射在薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD）、半导体、太阳能、材料表面处理等领域有非常广泛的应用。而磁控溅射的溅射靶材价格昂贵，因此在实际生产过程中，为了降低成本，一般都会尽量去提升靶材的利用率。但对于大型磁控溅射设备来说，打开真空腔非常困难，因此检查靶材使用情况也较为困难，实际使用中经常出现为了提高使用率导致靶材被过度使用以至于靶材被击穿并使得靶材背板被等离子体损伤的情况，如图1所示，磁控溅射在实际的镀膜生产中，靶材11通过连接层13与靶材背板12连接，当靶材11被过度使用时，靶材11被击穿，此时靶材背板12在位置14处被等离子体损伤，而靶材背板价格昂贵，一旦被损伤会造成较大的损失。

综上所述，现有技术中检查靶材使用情况较为困难，容易导致靶材被过度使用以至于靶材被击穿并使得靶材背板被等离子体损伤。

发明内容

本发明提供了一种镀膜装置，用以在镀膜生产过程中，可以准确的检测到靶材被击穿的临界点处的异常放电，进而避免由于靶材击穿导致靶材背板的损伤。

根据本发明提供的一种镀膜装置，包括靶材、靶材背板以及用于连接靶材和靶材背板的连接层，其中，所述镀膜装置还包括位于所述靶材和所述连接层之间的放电层。

由本发明提供的一种镀膜装置，由于该镀膜装置中包括位于靶材和连接层之间的放电层，故在镀膜生产过程中，可以准确的检测到靶材被击穿的临界点处的异常放电，进而避免由于靶材击穿导致靶材背板的损伤。

较佳地，所述放电层位于所述靶材和所述连接层之间的靶材表面或靶材内部；或所述放电层位于所述靶材和所述连接层之间的连接层表面或连接层内部。

这样，可以通过将放电层设置于所述靶材和所述连接层之间的靶材表面或靶材内部；或所述靶材和所述连接层之间的连接层表面或连接层内部，在镀膜生产过程中，可以准确的检测到靶材被击穿的临界点处的异常放电。

较佳地，所述放电层为绝缘层或导电层。

这样，当放电层为绝缘层或导电层时，可以更准确的检测到靶材被击穿的临界点处的异常放电。

较佳地，当所述放电层为绝缘层时，所述绝缘层由绝缘颗粒组成。

这样，当绝缘层由绝缘颗粒组成，在实际生产中更方便简单。

较佳地，所述绝缘颗粒为表面尖锐的颗粒。

这样，当绝缘颗粒为表面尖锐的颗粒时，更容易产生放电，这样会更精确的检测到靶材被击穿的临界点处的异常放电。

较佳地，所述绝缘颗粒为Al2O3颗粒。

这样，当绝缘颗粒为Al2O3颗粒时，在实际生产中更方便易行。

较佳地，当所述放电层为导电层时，所述导电层由金属颗粒组成。

这样，当导电层由金属颗粒组成时，在实际生产中更简单。

较佳地，所述金属颗粒为表面尖锐的颗粒。

这样，当金属颗粒为表面尖锐的颗粒时，更容易产生放电，这样会更精确的检测到靶材被击穿的临界点处的异常放电。

较佳地，所述镀膜装置还包括检测单元，用于检测所述靶材与所述靶材背板之间的放电电压或电流，当检测到的放电电压或电流超过预设的电压或电流阈值时，确定所述靶材被击穿。

这样，在实际生产中，可以通过所述镀膜装置中的检测单元，方便简单的确定靶材是否被击穿。

较佳地，所述镀膜装置还包括告警单元，用于当所述检测单元确定所述靶材被击穿时，发出告警信号。

这样，在实际生产中，可以通过所述镀膜装置中的告警单元，更方便直观的确定所述靶材被击穿。

附图说明

图1为现有技术中磁控溅射靶材被击穿时的示意图；

图2为本发明实施例提供的一种镀膜装置的示意图；

图3为本发明实施例提供的一种镀膜装置中放电层位于靶材表面的示意图；

图4为本发明实施例提供的一种镀膜装置中放电层位于靶材内部的示意图；

图5为本发明实施例提供的一种镀膜装置中放电层位于连接层表面的示意图；

图6为本发明实施例提供的一种镀膜装置中放电层位于连接层内部的示意图。

具体实施方式

本发明实施例提供了一种镀膜装置，用以在镀膜生产过程中，可以准确的检测到靶材被击穿的临界点处的异常放电，进而避免由于靶材击穿导致靶材背板的损伤。