[发明专利]一种吲哚去芳构化合成取代环丙烷化合物的方法

说明书

技术领域

本发明涉及含有取代吲哚和环丙烷化合物，具体地说是一种吲哚去芳构化合成取代环丙烷化合物的方法

背景技术

吲哚的去芳构化反应广泛的应用在天然产物的合成当中，吲哚类衍生物大多显示有重要的生物活性^[1]。含有环丙烷结构单元的化合物广泛存在于自然界中，环丙烷类衍生物由于其特殊的结构而显示出重要的生物活性，很多抗癌试剂中都具有其结构单元。而具有假吲哚并环丙烷结构的化合物因其特殊结构而广泛的应用于医药和农药的合成当中^[2]。目前，已经发展了很多吲哚去芳构化和合成环丙烷的方法^[3]。这些方法主要是采用氧化剂，有机催化或金属催化的方法。（文献1：(a)Cha,J.Y.;Huang,Y.;Pettus,T.R.R.Angew.Chem.Int.Ed.2009,48,9519.(b)Roche,S.P.;Porco,J.A.Angew.Chem.Int.Ed.2011,50,4068.(c)Cha,J.Y.;Burnett,G.L.;Huang,Y.D.;Davidson,J.B.;Pettus,T.R.R.J.Org.Chem.2011,76,1361.(d)Zuo,Z.;Xie,W.;Ma,D.J.Am.Chem.Soc.2010,132,13226.文献2：(a)Charette,A.B.;Lebel,H.J.Am.Chem.Soc.1996,118,10327.(b)Barrett,A.G.M.;Kasdorf,K.J.Am.Chem.Soc.1996,118,11030.(c)Wipf,P.;Xu,W.J.J.Org.Chem.1996,61,6556.(d)Wessjohann,L.A.;Brandt,W.;Thiemann,T.Chem.Rev.2003,103,1625.文献3：(a)Kagawa,N.;Malerich,J.P.;Rawal,V.H.Org.Lett.2008,10,2381.Gioia,C.;Hauville,A.;Bernardi,L.;Fini,F.;Ricci,A.Angew.Chem.Int.Ed.2008,47,9236.(b)Tan,B.;Hernandez-Torres,G.;Barbas,C.F.J.Am.Chem.Soc.2011,133,12354.(c)Lebel,H.;Marcoux,J.F.;Molinaro,C.;Charette,A.B.Chem.Rev.2003,103,977.(d)Maas,G.Chem.Soc.Rev.2004,33,183.(d)Jiang,H.;Deng,X.-M.;Sun,X.-L.;Tang,Y.;Dai,L.-X.J.Org.Chem.2005,70,10202.

由于大多数吲哚去芳构化和合成环丙烷化合物使用的反应条件比较苛刻，反应试剂或催化剂昂贵，并且所得的产物化学选择性和立体选择性比较差，阻止了这些方法的广泛应用。因此寻找一种高产率、高非对映选择性，反应条件温和的通过吲哚去芳构化合成取代环丙烷化合物是一个研究的热点。

发明内容

本发明的目的是提供一种吲哚去芳构化合成取代环丙烷化合物的合成方法。

本发明的技术方案如下：

本发明提供的是一类具有不同立体和电子效应取代基的吲哚去芳构化合成取代环丙烷化合物的合成，其合成路线如下：

所述反应物和产物中取代基R¹为C1-C4的烷基、苯基或取代苯基，取代苯基上的取代基为C1-C6的烷基、卤素、甲氧基中的一种或二种以上，取代基的个数为1-5个；R²为氢、C1-C10的烷基、苯基或取代苯基，取代苯基上的取代基为C1-C6的烷基；R³为氢、C1-C10的烷基、卤素或甲氧基中的一种取代基或二种取代基；R为C1-C10的烷基、甲酯基、乙酯基、苯基或酰胺基；叶立德为硫叶立德或氮叶立德，即Y=N或S，X=Cl、Br、I、OTf、PF₆或BF₄。

具体反应步骤为:

将化合物1溶于有机溶剂中，化合物1于有机溶剂中的溶度为0.01～0.2mol/L，向该体系按化合物1：化合物2的摩尔比1:0.5～1:2加入化合物2，接着向该体系按化合物1：碱的摩尔比1:1～1:3加入碱；室温下搅拌6～20h后，加入水淬灭反应；静置分液，水层用二氯甲烷萃取1～5次，合并二氯甲烷层后，无水硫酸钠干燥；减压去除溶剂，硅胶柱层析得到产品化合物3。