[发明专利]混合DRAM存储器及降低该DRAM存储器刷新时功耗的方法有效

专利信息
申请号: 201410040107.9 申请日: 2014-01-27
公开(公告)号: CN103810126B 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 景蔚亮;陈邦明 申请(专利权)人: 上海新储集成电路有限公司
主分类号: G06F13/28 分类号: G06F13/28
代理公司: 上海申新律师事务所31272 代理人: 吴俊
地址: 201500 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 混合 dram 存储器 降低 刷新 功耗 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及半导体器件和集成电路技术领域,具体涉及一种混合DRAM存储器及降低该DRAM存储器刷新时功耗的方法。

背景技术

过去几十年,动态随机存储器(DRAM)的成本随着摩尔定律不断降低。但随着特征尺寸越来越小,芯片对功耗的要求也越来越高,由于DRAM存储电容漏电,因此必须每隔一段时间就刷新一次,并加大刷新的功耗,如图1所示,容量较小的DRAM刷新功耗会较低,只占较少一部分功耗,但随着DRAM容量变大,刷新功耗显著升高,这是因为特征尺寸缩小,DRAM其他部分功耗变化不明显,但是对电容影响非常大,因此刷新功耗显著提高;因此如何降低DRAM的刷新功耗是亟待解决的问题。

近些年来,一些新型的DRAM结构或者存储材料被提出以解决当前DRAM技术的缺陷。IBM公司主张用非易失性存储器相变存储器(PCM)与DRAM结合形成一种混合存储器。虽然PCM是非易失性存储器,且功耗非常低,但由于PCM写入时间与所写数据有关,因此PCM的存取速度不及DRAM,并且PCM具有写入次数的限制。为了结合二者的各自优势,一种解决办法的主要结构,图2为一种利用非易失性存储器与DRAM结合形成混合存储器的结构示意图;如图2所示,其中(1)为处理器,混合存储器包括DRAM缓存,(3)PCM主存储器以及(4)PCM写时序模块。图中可以看出,DRAM只作为高速缓存器,缓存最近使用的信息,只有在需要时才将数据存储到PCM中。由于DRAM只是作为缓存,容量不需要很大,PCM作为主存储介质在存储数据时无需定时刷新,因此这种结构能够大大降低数据存储的功耗,但是由于PCM存储与读取速度较慢,因此这种结构在整体性能上明显下降。图3为另一种利用非易失性存储器与DRAM结合形成混合存储器的结构示意图;如图3所示,其中(1)为处理器,混合存储器包括DRAM主存储器,非易失性存储器以及(6)备用电池。在正常使用时DRAM仍是主要存储介质,一旦掉电,备用大电池就会迅速将DRAM中的数据存储到非易失性存储器中。再一次上电时,数据会自动从非易失性存储器中恢复到DRAM中。这种结构虽然解决了DRAM易失性问题,但是依然没有降低DRAM定期刷新数据时产生的功耗,并且成本也大大提高。

美光(Micron)提出了一种混合存储立方结构(HMC,Hybrid Memory Cube),它基于一种硅通孔(TSV,Through-Silicon Vias)连接的三维技术。图4为传统DRAM中层与层之间的平面结构示意图;如图4所示,DRAM层与层之间是平面结构,层与层之间通过PAD连接,占用大量资源。若处理器想访问DRAM层9的数据,就必须经过其他DRAM层,例如经过DRAM层2,DRAM层5,DRAM层8才能到达DRAM9,浪费大量时间和功耗。HMC结构如图5所示,DRAM层与层之间呈立体结构,并且通过硅通孔(TSV)连接,无需PAD,节省了大量面积,并且大大缩短了访问时间,例如访问DRAM层4时,无需经过其他DRAM层,直接通过TSV即可访问,显著降低了功耗,器件的性能得到大大提高。但是这种结构对工艺要求非常高,成本增加,并且DRAM仍然需要定时刷新,刷新功耗仍没有降低。

中国专利(公开号:CN101216751B)公开了一种基于分布存储结构的具有数据处理能力的DRAM装置,包括:存储器装置接口、控制接口、处理单元、DRAM存储体、通信网络、DRAM存储体控制器、DMA控制器,存储器装置接口用来和外部存储器总线交互数据,同时与装置内的DRAM存储控制器及DMA控制器连接,DMA控制器、处理单元与DRAM存储体控制器通过通信网络连接,内部DRAM存储体控制器同时还连接内部DRAM存储器。该发明的优点在于不对数据处理系统中其它硬件进行改动,可以作为普通存储器使用,也可以利用程序控制具有数据处理能力的存储装置的数据处理单元,对装置内部的数据加速处理,起到显著提高整个数据处理系统性能的效果。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新储集成电路有限公司,未经上海新储集成电路有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410040107.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top