[发明专利]红外线反射薄膜的制造方法有效
申请号: | 201410043878.3 | 申请日: | 2014-01-29 |
公开(公告)号: | CN103966560A | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 渡边圣彦;大森裕 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/08 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 红外线 反射 薄膜 制造 方法 | ||
1.一种红外线反射薄膜的制造方法,所述红外线反射薄膜在透明薄膜基材上按顺序具备金属层、表面侧金属氧化物层和透明保护层,其中,
所述金属层是以银为主要成分的层,所述表面侧金属氧化物层是含有氧化锡和氧化锌的复合金属氧化物层,
该制造方法按顺序包括如下工序:金属层形成工序,在透明薄膜基材上制膜所述金属层;表面侧金属氧化物层形成工序,以在所述金属层上直接相接的方式通过直流溅射制膜所述表面侧金属氧化物层;以及,透明保护层形成工序,在所述表面侧金属氧化物层上形成所述透明保护层,
在所述表面侧金属氧化物层形成工序中,在直流溅射法中使用的溅射靶是含有锌原子和锡原子、并将氧化锌和氧化锡中的至少一种金属氧化物与金属粉末烧结而得到的靶,
向溅射制膜室内导入非活性气体和氧气,向溅射制膜室导入的气体中的氧浓度为8体积%以下。
2.根据权利要求1所述的红外线反射薄膜的制造方法,其中,作为在用于形成所述表面侧金属氧化物层的溅射靶的形成中使用的所述金属粉末,含有金属锌或金属锡。
3.根据权利要求2所述的红外线反射薄膜的制造方法,其中,在用于形成所述表面侧金属氧化物层的溅射靶的形成中使用的金属锌与金属锡的含量的总和为0.1重量%~20重量%。
4.根据权利要求1~3中的任一项所述的红外线反射薄膜的制造方法,其中,在用于形成所述表面侧金属氧化物层的溅射靶中所含的锌原子与锡原子的比例按原子比计在10:90~60:40的范围内。
5.根据权利要求1~4中的任一项所述的红外线反射薄膜的制造方法,其还包括如下工序:
基材侧金属氧化物层形成工序,在所述金属层形成工序之前,通过直流溅射法在透明薄膜基材上制膜由含有氧化锡和氧化锌的复合金属氧化物制成的基材侧金属氧化物层,其中,
在所述基材侧金属氧化物层形成工序中,在直流溅射法中使用的溅射靶是含有锌原子和锡原子、并将氧化锌和氧化锡中的至少一种金属氧化物与金属粉末烧结而得到的靶,
在基材侧金属氧化物层形成工序中向溅射制膜室导入的气体中的氧浓度比在所述表面侧金属氧化物层形成工序中向溅射制膜室导入的气体中的氧浓度高。
6.根据权利要求5所述的红外线反射薄膜的制造方法,其中,作为在用于形成所述基材侧金属氧化物层的溅射靶的形成中使用的所述金属粉末,含有金属锌或金属锡。
7.根据权利要求6所述的红外线反射薄膜的制造方法,其中,在用于形成所述基材侧金属氧化物层的溅射靶的形成中使用的金属锌与金属锡的含量的总和为0.1重量%~20重量%。
8.根据权利要求5~7中的任一项所述的红外线反射薄膜的制造方法,其中,在用于形成所述基材侧金属氧化物层的溅射靶中所含的锌原子与锡原子的比例按原子比计在10:90~60:40的范围内。
9.根据权利要求1~8中的任一项所述的红外线反射薄膜的制造方法,其中,在所述透明保护层形成工序中,所述保护层以在所述金属氧化物层上直接相接的方式形成。
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