[发明专利]用于实体瘤的化学栓塞治疗的组合物有效
申请号: | 201410044028.5 | 申请日: | 2004-02-12 |
公开(公告)号: | CN103908704B | 公开(公告)日: | 2017-09-01 |
发明(设计)人: | A·L·刘易斯;P·W·斯特拉福德;S·W·莱帕德;B·霍尔;M·V·冈萨雷斯福哈多;P·加西亚 | 申请(专利权)人: | 生物相容英国有限公司 |
主分类号: | A61K31/704 | 分类号: | A61K31/704;A61K47/32;A61L31/04;A61L31/16;A61L31/18;A61P35/00 |
代理公司: | 北京市路盛律师事务所11326 | 代理人: | 冯云,王桂玲 |
地址: | 英国萨里*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 实体 化学 栓塞 治疗 组合 | ||
1.一种组合物,该组合物包含具有一种遇水可膨胀但不溶于水的聚合物基质和一种吸收在该基质中的水溶性治疗剂的粒子,所述水溶性治疗剂离子键结合至该基质,其特征在于:所述聚合物在pH6-8范围内总体带有负电荷,当所述粒子在水中膨胀达到平衡时,其粒子大小在40-1500μm之间,所述治疗剂为至少带有一个氨基的蒽环类化合物,其中,所述聚合物包括共价交联的聚乙烯醇;
该聚合物基质通过每个分子含有至少两个烯键不饱和侧链基团的聚乙烯醇大分子单体与包括如通式Ⅰ所示阴离子单体的烯键不饱和单体共聚合形成;
Y1BQ 通式Ⅰ
其中Y1是式CH2=CRCOA-的基团,其中R是H或甲基,且A是NH-,
B是1-12个碳原子的烷二基基团;并且
Q是磺酸盐基团;
并且其中所述聚乙烯醇大分子单体与其他单体的重量比在50:1到1:5范围内;在烯键不饱和单体中,阴离子单体的含量在10-100摩尔%范围;
其中所述聚合物基质中的阴离子水平在0.1-10meq/g之间,并且所述粒子为微球。
2.根据权利要求1的组合物,其中PVA大分子单体具有1,000-500,000D范围的平均分子量。
3.根据权利要求1的组合物,其中烯基侧链基团通过环状缩醛键与相邻羟基的氧原子连接。
4.根据权利要求1的组合物,其中所述蒽环类化合物是具有通式Ⅱ的化合物:
5.根据权利要求1的组合物,其中所述粒子膨胀并悬浮于水性液体中。
6.根据权利要求5的组合物,该组合物进一步包含一种成像剂。
7.根据权利要求6的组合物,该成像剂是造影剂。
8.权利要求1-7任意一项的组合物用于制备一种药物的用途,所述药物用于对患有实体瘤的患者的栓塞治疗中在循环系统中形成栓塞物。
9.一种根据权利要求1-7中任一项的组合物的生产方法,其中在水存在下,使一种遇水可膨胀但不溶于水的聚合物的粒子与一种蒽环类化合物的溶液接触,藉此将蒽环类化合物吸收入聚合物基质中,其中所述蒽环类化合物离子键结合至该基质。
10.根据权利要求9的方法,其中所述接触通过将聚合物粒子悬浮在蒽环类化合物的水溶液中进行。
11.根据权利要求10的方法,其中基质中吸收有蒽环类化合物的聚合物粒子从悬浮液中回收并干燥。
12.根据权利要求1的组合物,其中所述遇水可膨胀但不溶于水的聚合物的平衡水含量为40-99重量%,所述平衡水含量是通过重量分析测量。
13.根据权利要求1的组合物,其中所述遇水可膨胀但不溶于水的聚合物的平衡水含量为75-95重量%,所述平衡水含量是通过重量分析测量。
14.根据权利要求1的组合物,其中所述蒽环类化合物为阿霉素。
15.根据权利要求14的组合物,其中所述粒子膨胀并悬浮于水性液体中。
16.根据权利要求13的组合物,还包括成像剂。
17.权利要求16的组合物用于制备一种药物的用途,所述药物用于在患有实体瘤的患者中形成包含所述粒子的栓塞物。
18.根据权利要求16的组合物,其中所述成像剂为造影剂。
19.一种组合物在制备一种用于对患有实体瘤的患者进行栓塞治疗的药物中的用途,其中在所述栓塞治疗中,带有至少一个氨基的蒽环化合物从所述组合物中释放,该组合物包含具有一种遇水可膨胀但不溶于水的聚合物基质和一种吸收在该基质中的水溶性治疗剂的粒子,所述水溶性治疗剂离子键结合至该基质,其特征在于:
所述聚合物在pH6-8范围内总体带有负电荷,当所述粒子在水中膨胀达到平衡时,其粒子大小在40-1500μm之间,其中所述聚合物包括共价交联的聚乙烯醇,
并且其中所述聚合物基质是由每个分子带有至少两个烯键不饱和侧链基团的聚乙烯醇大分子单体与包括如通式Ⅰ所示的阴离子单体的烯键不饱和单体共聚合形成的;:
Y1BQ 通式Ⅰ
其中Y1是式CH2=CRCOA-的基团,其中R是H或甲基,且A是NH-,
B是1-12个碳原子的烷二基基团;并且
Q是磺酸盐基团;
并且其中所述聚乙烯醇大分子单体与其他单体的重量比在50:1到1:5范围内;在烯键不饱和单体中,阴离子单体的含量在10-100摩尔%范围;
其中所述聚合物基质中的阴离子水平在0.1-10meq/g之间,并且所述粒子为微球。
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