[发明专利]片剂杂质和抗张强度的高通量近红外灵敏快速无损分析

权利要求书

1.一种片剂中杂质和抗张强度的近红外快速无损分析方法，其特征在于采用以下步骤： 

(1)制备或收集片剂样品； 

(2)采集片剂样品的近红外漫反射光谱(NIR-DRS)； 

(3)用高效液相色谱法(HPLC)测定片剂样品中杂质含量的参考值； 

(4)用游标卡尺和片剂硬度测试仪测定并计算片剂样品抗张强度的参考值； 

(5)对原始NIR-DRS进行预处理； 

(6)选择最优建模波数范围，剔除奇异值； 

(7)分别选择最佳因子数建立基于片剂样品NIR-DRS的杂质含量及抗张强度校正模型，并对模型性能进行评价； 

(8)采集未知样品的NIR-DRS； 

(9)对未知样品的NIR-DRS进行相应的预处理； 

(10)应用所建模型预测未知样品的杂质含量和抗张强度。 

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(2)中应用傅里叶变换近红外光谱仪采集片剂样品正反两面的NIR-DRS，采样装置为药片漫透射采集附件；采集参数为扫描次数32～128，分辨率4～16cm^-1，扫描范围10000～4000cm^-1。 

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(3)中用HPLC测定片剂样品中杂质的含量，按外标法以峰面积计算。 

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(4)中先用游标卡尺测定片剂样品的直径和厚度，再用片剂硬度测试仪测定其硬度，然后根据公式(1)计算片剂的抗张强度。 

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(5)中光谱和数据的预处理方法为未处理、多元散射校正或标准正态变换、一阶导数或二阶导数、Norris平滑或Savitzky-Golay平滑、均值中心化和定标中的一种或多种。 

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(6)中最优的波数范围可由建模软件自动筛选，并根据被分析物的近红外特征吸收对自动筛选的范围进行人工优化，使校正模型具有低的预测误差和高的相关系数。 

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(6)奇异值的剔除可由建模软件自动筛选和剔除，并根据光谱数据、参考值或预测效果人工筛选和剔除。 

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(7)中建立校正模型的方法为偏最小二乘法，通过交叉验证确定建模的最佳主因子数；采用校正集均方根误差(RMSEC)、交叉验证均方根误差(RMSECV)、预测集均方根误差(RMSEP)、校正集相关系数(R_c)及预测集相关系数(R_p)对模型性能进行评价。 

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(8)中采集未知样品NIR-DRS的参数值与校正模型中已知样品的一致。 

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(9)中未知样品的光谱预处理方法与校正模型中已知样品的一致。