[发明专利]片剂杂质和抗张强度的高通量近红外灵敏快速无损分析

说明书

技术领域

本发明涉及一种快速检测药物片剂中杂质和抗张强度的方法，具体地说是一种采用傅里叶变换近红外光谱法结合化学计量学技术快速无损检测片剂中杂质和抗张强度的方法，属于药物制剂分析领域。 

背景技术

片剂，是指药物与药用辅料均匀混合后压制而成的片状制剂。片剂具有服用方便、化学稳定性好、剂量准确、携带方便等优点。目前在世界各国药典收载的制剂中，以片剂为最多。 

在片剂的生产和贮藏过程中，常常会引入一些杂质，影响片剂的稳定性和疗效，甚至危害人体健康。因此，需要进行片剂的杂质检查，以保证其安全、有效，同时也为生产和流通过程的药品质量监督管理提供依据。在各国药典和文献中，片剂杂质含量测定方法多为高效液相色谱法(HPLC)、气相色谱法(GC)、液质联用技术(LC-MS)、气质联用技术(GC-MS)等。上述分析方法涉及片重的称量、供试品溶液的制备、较长时间的分析，效率低，且破坏样品，不能实现自动在线质量控制。 

抗张强度，一种重要的片剂物理参数，可以反映片剂的崩解时限和溶出度等，片剂抗张强度(radial tensile strenghh，RTS)的计算公式为： 

RTS=2FπDt---(1)]]>

其中，F为片剂的硬度，D为直径，t为厚度。厚度和直径的测定常使用游标卡尺，硬度测定使用硬度仪。测量过程涉及片剂直径和厚度的测量、片剂硬度的测定，还需进行抗张强度的计算。操作繁琐、且破坏样品，不适合大量样品的快速分析和工艺过程的在线控制。 

近红外光谱表征分子振动跃迁中含氢基团的倍频和合频吸收。近红外光谱分析技术是一种无损检测分析技术，具有高通量、快速、简便、可自动化的优点，能够同时分析样品中的多种化学信息和物理信息，在药物制剂的定性、定量分析等方面具有广泛的应用。 

目前，尚无片剂中杂质和抗张强度高通量灵敏近红外光谱分析的文献。 

发明内容

本发明的目的是提供一种灵敏、分析速度快、操作简便、无污染、可自动化的片剂杂质和抗张强度的近红外光谱分析方法。主要包括下述步骤： 

1.制备或收集片剂样品； 

2.采集片剂样品的近红外漫反射光谱(NIR-DRS)； 

3.用HPLC测定片剂样品中杂质的含量参考值； 

4.用游标卡尺和片剂硬度测试仪测定片剂样品的直径、厚度和硬度，计算抗张强度参考值； 

5.对原始NIR-DRS进行预处理； 

6.选择最优建模波数范围，剔除奇异值； 

7.分别选择最佳因子数建立基于片剂样品的NIR-DRS的杂质含量及抗张强度校正模型，并对模型性能进行评价； 

8.采集未知样品的NIR-DRS 

9.对未知样品的NIR-DRS进行相应的预处理； 

10.应用所建模型预测未知样品的杂质含量和抗张强度。 

其中，通常应用傅里叶变换近红外光谱仪采集片剂的NIR-DRS，采样装置可使用药片漫透射采样附件，信号采集软件包括但不限于：Result3.0，数据处理软件包括但不限于：TQAnalyst8.0。光谱的采集模式包括但不限于：NIR-DRS。NIR-DRS测量参数中的分辨率包括但不限于：8cm^-1，扫描次数包括但不限于：64，光谱范围包括但不限于：10000～4000cm^-1。 

对原始光谱和数据的预处理方法包括但不限于：未处理、多元散射校正或标准正态变换、一阶导数或二阶导数、Norris平滑或Savitzky-Golay平滑、均值中心化、定标等。上述方法中的一种或多种联合使用，以达到最佳的模型预测性能。 

用于建模的光谱波数范围可由建模软件自动筛选，并根据被分析物的近红外特征吸收对自动筛选的范围人工优化，使校正模型具有低的预测误差和高的相关系数。 

奇异值可由建模软件自动筛选和剔除，并根据光谱数据、参考值或预测效果人工筛选和剔除。