[发明专利]磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质用玻璃基板

权利要求书

1.一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，包含研磨工序：使用具有研磨面的软质研磨垫对玻璃基板的主表面进行研磨，所述研磨面在测定波长2.5～80μm时的表面粗糙度Ra为0.40～1.40μm、且在测定波长2.5～800μm时的表面粗糙度Ra为0.40～2.00μm。

2.根据权利要求1所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，所述研磨面在测定波长8.3～2500μm时的表面粗糙度Ra为0.60～2.30μm。

3.根据权利要求1或2所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，所述研磨工序包含使用含有平均粒径为1～50nm的二氧化硅粒子的研磨液对玻璃基板的主表面进行研磨的工序。

4.一种磁记录介质用玻璃基板，是在中央部具有圆孔的圆盘形状的磁记录介质用玻璃基板，

所述磁记录介质用玻璃基板的主表面在测定波长40～200μm时的表面波纹度Wa为0.06nm以下，且在测定波长200～1250μm时的表面波纹度Wa为0.08nm以下。

5.根据权利要求4所述的磁记录介质用玻璃基板，其中，所述主平面在测定波长1250～5000μm时的表面波纹度Wa为0.13nm以下。