[发明专利]磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质用玻璃基板

说明书

技术领域

本发明涉及磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质用玻璃基板。 

背景技术

近年来，随着磁盘（以下，也称为磁记录介质。）的高记录密度化的要求，磁记录介质上的比特尺寸正逐渐微型化。因此，要求能够将与更小的比特尺寸对应的微弱的磁信号正确地记录和/或再生。 

为了将微弱的磁信号正确地记录和/或再生，需要尽量减小磁记录介质与磁头的距离（磁头的浮起量）。磁头一定程度地追随磁记录介质的主表面的表面波纹度，但磁记录介质的主表面的表面波纹度过大时，难以使磁头稳定地浮起。为了在磁头的浮起量小的状态下稳定地进行记录的读写，需要减小作为磁记录介质的基板的磁记录介质用玻璃基板的主表面的表面波纹度。 

为了减小表面波纹度，使用表面粗糙度小的软质研磨垫对磁记录介质用玻璃基板的主表面进行精研磨。具体而言，在专利文献1中，首先，将软质研磨垫安装于研磨平台后，使用具有金刚石粒子等作为磨粒的修整器对其表面实施修整处理。然后，使用经修整处理的软质研磨垫对磁记录介质用玻璃基板进行研磨，制造表面波纹度小的磁记录介质用玻璃基板。对于软质研磨垫，由于通过除去由研磨平台的表面的凹凸形状产生的软质研磨垫的表面的波纹度等而使研磨面更平滑，因此在安装于研磨平台后实施修整处理。 

专利文献1：日本特开2008-112572号公报 

发明内容

然而，即使使用由专利文献1中记载的方法实施了修整处理的软质研磨垫，也难以提供与满足近年的高记录密度化要求的磁记录介质对应 的磁记录介质用玻璃基板。 

随着磁记录介质的高记录密度化，磁头滑块的尺寸变小，对磁头的浮起量变小。磁头容易追随具有比其滑块的长度长的波长的磁记录介质的主表面的波纹度，但不易追随具有与滑块的长度相同程度以下的波长的波纹度。因此，磁头滑块的尺寸变小时，需要减小更短的波长区域的表面波纹度而使磁头能够稳定地在磁记录介质上浮起。而且，对于作为磁记录介质的基板的磁记录介质用玻璃基板的主表面，也开始要求减小更短的波长区域的表面波纹度。 

本申请发明的目的在于，提供在磁记录介质用玻璃基板的主表面能够充分减小短波长的表面波纹度和中波长的表面波纹度的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。 

本申请发明提供一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，该方法包含研磨工序：使用具有研磨面的软质研磨垫，对玻璃基板的主表面进行研磨，所述研磨面在测定波长2.5～80μm时的表面粗糙度Ra为0.40～1.40μm、且在测定波长2.5～800μm时的表面粗糙度Ra为0.40～2.00μm。 

根据本发明，能够提供在磁记录介质用玻璃基板的主表面，能够充分减小短波长的表面波纹度和中波长的表面波纹度的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。 

附图说明

图1是本实施方式涉及的修整器的一个例子的概略构成图。 

图2是双面研磨装置的一个例子的示意纵截面图。 

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明涉及的实施方式。 

［磁记录介质用玻璃基板的制造方法的概要］ 

对本实施方式的磁记录介质用玻璃基板的制造方法的概要进行说明。 

首先，在本发明中，磁记录介质用玻璃基板可以是非晶玻璃，也可以是结晶化玻璃，还可是在玻璃基板的表层具有强化层的强化玻璃（例如，化学强化玻璃）。举一个例子：对磁记录介质用玻璃基板要求高机械强度时，实施在玻璃基板的表层形成强化层的强化工序（例如，化学强化工序）。强化工序可以在最初的研磨工序之前、最后的研磨工序之后、或者各研磨工序之间的任意时刻实施。 

本发明的磁记录介质用玻璃基板的原材料玻璃基板利用浮式法、熔融法、冲压成型法、下拉法或者再拉法等方法成型，但本发明不限于此。 

磁记录介质用玻璃基板通过对上述方法中成型的玻璃素板实施包含下述工序的工序来制造，即， 

（工序1）形状赋予工序，将原材料玻璃基板加工成在中央部具有圆形孔的圆盘形状后，对内周侧面和外周侧面实施倒角加工； 

（工序2）端面研磨工序，对玻璃基板的端面（内周端面和外周端面）进行研磨； 

（工序3）主表面研磨工序，对研磨玻璃基板的上下两个主表面进行研磨； 

（工序4）清洗工序，对玻璃基板进行精密清洗并干燥。 

然后，利用包含上述工序的制造方法得到的磁记录介质用玻璃基板经由形成磁性层等薄膜的工序而成为磁记录介质。