[发明专利]基于多种样品的合拼板及其生产工艺有效

专利信息
申请号: 201410050330.1 申请日: 2014-02-13
公开(公告)号: CN103747614B 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 周小兵 申请(专利权)人: 遂宁市广天电子有限公司
主分类号: H05K1/14 分类号: H05K1/14;H05K3/00
代理公司: 成都金英专利代理事务所(普通合伙)51218 代理人: 袁英
地址: 629000 四川省遂宁*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 基于 多种 样品 拼板 及其 生产工艺
【权利要求书】:

1.基于多种样品的合拼板,其特征在于:它包括至少两个拼接在同一合拼板上的不同种类样板的拼接单元(1),拼接单元(1)保留有间隔;

所述基于多种样品的合拼板的生产工艺,包括以下步骤:

图形设计:将由不同种类样板构成的拼接单元(1)设计在同一合拼板上,并制成线路纸片;

图形转移:线路纸片贴覆在基板上,依次进行曝光和显影;

第一蚀刻:加90%~100%的硫酸对蚀刻液进行调节,使得蚀刻液的pH值为8.0~9.0,氯离子的浓度为150g/L~190g/L,铜离子的浓度为130g/L~170g/L,对基板上的非线路纸片贴覆区域进行蚀刻;使基板上的非线路纸片贴覆区域露出铜面;

退膜:采用浓度为3%~5%、温度为45℃~55℃的氢氧化钠溶液对基板进行退膜处理;

钻孔;

电镀:对孔壁上的非导体部分进行镀铜使其金属化,以及加厚线路及孔内的铜厚,并在镀铜后的线路或孔壁上镀一层锡;

第二蚀刻:加90%~100%的硫酸对蚀刻液进行调节,使得蚀刻液的pH值为8.0~9.0,氯离子的浓度为150g/L~190g/L,铜离子的浓度为130g/L~170g/L,对基板的非线路纸片贴覆区域进行蚀刻,使基板上非线路纸片贴覆区域的底铜全部蚀刻掉,形成最终线路图形,

它还包括一个在完成退膜之后钻孔之前,对基板进行贴铝片的步骤:铝片的尺寸和需要钻孔的基板的尺寸一样,用胶纸贴铝片时要尽量靠边,用于粘贴铝片的胶纸需贴在铝片的四周。

2.根据权利要求1所述的基于多种样品的合拼板,其特征在于:所述的拼接单元(1)由至少两个拼接子单元(11)构成,拼接子单元(11)由至少一个同种类的样板构成,所述的同种类的样板是指的样板的层数相同,拼接子单元(11)之间设有间隔。

3.根据权利要求1所述的基于多种样品的合拼板,其特征在于:所述的合拼板上设有线路区和非导电区(2),所述的拼接单元(1)拼接在线路区,所述的非导电区(2)为不包含任何导电线路的区域。

4.根据权利要求1所述的基于多种样品的合拼板,其特征在于:所述的合拼板上设有线路区和非导电区(2),所述的拼接单元(1)拼接在线路区,所述的非导电区(2)为不包含任何导电线路的区域,在完成所述第二蚀刻步骤后,对非导电(2)进行油墨处理,使非导电区(2)的表面覆着油墨。

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