[发明专利]一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法

权利要求书

1.一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

1）原料的选择及经纬密度的确定：首先，选择经纱和纬纱的原料，然后，确定织物的经纬密度和提花织机的织造参数；

2）纹样设计：运用Photoshop软件绘制两幅大小相同且花纹清晰的长方形花纹图案；然后根据设计的经纬密度比和提花织机的织造参数调整两幅花纹图案的大小，分别制作成织物的正面纹样图和反面纹样图；

3）组织结构的设计：对织物的组织结构进行设计，所述组织结构包括正面纹样组织、反面纹样组织、接结组织、边组织和选纬针组织；然后，在Photoshop中分别绘制各组织结构的组织图，并将组织图定义成组织图案；

4）纹版图的设计：在Photoshop软件中，分别采用正面纹样组织、反面纹样组织、接结组织、边组织和选纬针组织的组织图案制作得到织物的正面纹版、反面纹版、接结纹版、边组织纹版和选纬针纹版，并将设计好的正面纹板与反面纹板进行叠加得到双面纹版图；

5）上机纹板文件的制作：通过在Photoshop合并双面纹版图、接结纹版、边组织纹版和选纬针纹版制作出上机纹板文件，保存为.bmp格式，然后将.bmp格式的上机纹版文件转换成.jc5格式的上机文件；

6）将制作好的.jc5格式上机文件拷贝到提花织机中，进行织造。

2.根据权利要求1所述的一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法，其特征在于，所述织物的经密：纬密=35:20。

3.根据权利要求2所述的一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法，其特征在于，所述织物经密为70根/cm，纬密为40根/cm。

4.根据权利要求1所述的一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法，其特征在于，所述步骤2）中根据经纬密度比、花纹图案长宽比和提花织机针数在Photoshop中确定花纹图案的像素。

5.根据权利要求1所述的一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法，其特征在于，所述步骤3）中根据正面花纹图案和反面花纹图案的颜色确定各个组织的经面缎纹和纬面缎纹组织结构，并定义为组织图案，然后用Photoshop分别打开正面纹样图和反面纹样图，采用组织图案进行填充。

6.根据权利要求1所述的一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法，其特征在于，正面采用A和B两种颜色，A色花纹组织采用8枚经缎的8枚5飞经面缎纹，B花纹组织采用8枚纬缎的8枚5飞纬面缎纹。

7.根据权利要求1所述的一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法，其特征在于，反面花纹图案的颜色为a、b、c和d，a色花纹组织采用8枚纬缎，b色花纹组织采用8枚经缎，c色花纹组织采用平纹，d色花纹组织采用4/1斜纹。

8.根据权利要求1所述的一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法，其特征在于，所述接结组织结构采用自身接结法中的里纬接结法，即里层织物的纬纱提升与表经交织形成接结点，采用每投8根乙纬，提升1根乙纬进行接结；沿纬纱方向每隔8根乙经形成一个接结点，得到接结组织。

9.根据权利要求1所述的一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法，其特征在于，边组织采用纬二重组织，在织物正面与反面均呈1/2右斜纹。