[发明专利]一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及织物的制造领域，具体涉及一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法。

背景技术

纺织材料在遮光领域的研究大致分为两大类，(1)特定截面或特定原料单纤维的光学性质研究而理论化定性的分析其所产生的光泽、光线通透和遮光效果，该种遮光织物较为单薄，原料要求高，织造紧密度要求高；(2)运用双层或多层组织结构并结合涂层或涂料印花工艺，使织物表面产生含有添加剂的遮光涂胶层来达到遮蔽光线的效果。该种遮光织物缺点在于手感较差，遮光图层有污染。

双面织物根据织物表面效果可以分为两类：平素效果和花纹效果。平素效果双面织物的设计有两种方法：（1）采用具有双面效果的双面组织来完成，这种双面组织属于简单组织，设计的双面织物为单层结构织物；（2）采用重组织来设计，利用重经或重纬结构来设计双面效果的织物，织物的双面效果可以相同也可以不同；花纹效果双面织物的正反面花纹变化丰富，在结构设计时必须采用双层结构组织，利用独立的经纬丝线在织物正面和反面分别交织形成纹织图案，并利用提花机进行生产，故具有花纹效果的双面织物在结构上属于变化的双层结构，可称为双面花纹提花织物。

设计提花织物需要进行纹织工艺设计，传统方法是通过手绘纹样和人工制作纹板，此法不仅耗时耗力，而且能够设计出的品种水平有限，而如今计算机技术已经被用在各个领域，在提花织物设计中出现了数码提花技术如纹织CAD系统及以电子提花机与新型织机为代表的数码生产技术。提花织物从设计数据到提花信息数据均在计算机中处理、传输和控制，这为提花织物的数码创新设计提供了技术基础，数码提花织物的创新设计基于全息组织库的建立、分层组合的织物结构设计模式，可以直接面对客观物象进行提花工艺处理，能够实现提花织物真正意义上的创新设计。

虽然运用纹织CAD系统设计单层提花织物十分简单，但是对于双层织物甚至多层织物的设计比较困难。

对于生活中较常用的双面异花遮光性织物同样存在上述所述的不足和设计困难。

发明内容

本发明的目的是为了克服目前的双面异花遮光性织物在遮光性和提花设计中的困难等问题，提供了一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法。

为了达到上述发明目的，本发明采用以下技术方案：

一种不填芯双面异花高遮光性织物的制备方法，具体包括以下步骤：

1）原料的选择及经纬密度的确定：首先，选择经纱和纬纱的原料，然后，确定织物的经纬密度和提花织机的织造参数；

2）纹样设计：运用Photoshop软件绘制两幅大小相同且花纹清晰的长方形花纹图案；然后根据设计的经纬密度比和提花织机的织造参数调整两幅花纹图案的大小，分别制作成织物的正面纹样图和反面纹样图；

3）组织结构的设计：对织物的组织结构进行设计，所述组织结构包括正面纹样组织、反面纹样组织、接结组织、边组织和选纬针组织；然后，在Photoshop中分别绘制各组织结构的组织图，并将组织图定义成组织图案；

4）纹版图的设计：在Photoshop软件中，分别采用正面纹样组织、反面纹样组织、接结组织、边组织和选纬针组织的组织图案制作得到织物的正面纹版、反面纹版、接结纹版、边组织纹版和选纬针纹版，并将设计好的正面纹板与反面纹板进行叠加得到双面纹版图；

5）上机纹板文件的制作：通过在Photoshop合并双面纹版图、接结纹版、边组织纹版和选纬针纹版制作出上机纹板文件，保存为.bmp格式，然后将.bmp格式的上机纹版文件转换成.jc5格式的上机文件；

6）将制作好的.jc5格式上机文件拷贝到提花织机中，进行织造。

作为优选方案，所述织物的经密：纬密=35:20。

作为优选方案，所述织物经密为70根/cm，纬密为40根/cm。

作为优选方案，所述步骤2）中根据经纬密度比、花纹图案长宽比和提花织机针数在Photoshop中确定花纹图案的像素。

作为优选方案，所述步骤3）中根据正面花纹图案和反面花纹图案的颜色确定各个组织的经面缎纹和纬面缎纹组织结构，并定义为组织图案，然后用Photoshop分别打开正面纹样图和反面纹样图，采用组织图案进行填充。

作为优选方案，正面采用A和B两种颜色，A色花纹组织采用8枚经缎的8枚5飞经面缎纹，B花纹组织采用8枚纬缎的8枚5飞纬面缎纹。

作为优选方案，反面花纹图案的颜色为a、b、c和d，a色花纹组织采用8枚纬缎，b色花纹组织采用8枚经缎，c色花纹组织采用平纹，d色花纹组织采用4/1斜纹。