[发明专利]通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法

权利要求书

1.一种通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法，包括以下步骤：

S10、在物品表面植入由含碳隐形油墨生成的点阵图形；

S20、在物品表面植入由无碳油墨生成的干扰元素层，并使干扰元素层覆盖在点阵图形上。

2.根据权利要求1所述的通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法，其特征在于，在步骤S10中，包括以下子步骤：

用户端根据所要植入在物品表面的区域设定所需点阵图形的有效识别面积、形状与逻辑关系，以生成点阵图形图样；

建立物品信息与点阵图形图样的绑定关系，在完成对点阵图形的识别之后，能够反馈与其相对应的物品信息。

3.根据权利要求2所述的通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法，其特征在于，所述点阵图形为肉眼无法分辨、且带有指定形状的标识，所述点阵图形的有效面积不小于3*3平方毫米，由至少一组直径为30～40微米的信息点按规律排列构成，所述信息点中包括方向参考点、中心参考点与检验码，相邻两个所述信息点之间的间距为80微米。

4.根据权利要求1所述的通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法，其特征在于，在步骤S20中，根据点阵图形的有效识别面积设置干扰元素层的面积，并保证干扰元素层能够完全覆盖在点阵图形上。

5.根据权利要求4所述的通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法，其特征在于，所述干扰元素层为单一颜色的色块层、由多种颜色构成的复合色块层或带有图案的图像层。

6.根据权利要求1至5中任一所述的通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法，其特征在于，用于识别点阵图形的光谱与用于识别干扰元素层的光谱不同，用于识别点阵图形的光谱为红外线，红外线能够透过所述干扰元素层直接识别所述点阵图形。