[发明专利]通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法无效
申请号: | 201410055215.3 | 申请日: | 2014-02-18 |
公开(公告)号: | CN103794139A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 姚为;熊振文 | 申请(专利权)人: | 立德高科(北京)数码科技有限责任公司 |
主分类号: | G09F3/02 | 分类号: | G09F3/02;G06K19/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100081 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 通过 加入 干扰 元素 隐藏 点阵 图形 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种图形隐藏方法,尤其是一种通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法。
背景技术
目前,防伪标签一般由基底和印刷在基底上的标识层与可视图案层组成。在2013年3月13日公开的公开号为CN102968927A的中国专利中涉及一种防伪标签、防伪标签的识别装置及方法,该防伪标签包括基底,以及印刷在基底上的红外油墨编码层和红外油墨防伪层,红外油墨编码层位于红外油墨防伪层上方。通过在传统的防伪标签上增加了一红外油墨防伪层,以特定的光谱衰减特性作为第一项防伪标记,然后再利用原红外油墨编码层的二维码图案作为第二项防伪标记,起到双重防伪的作用,又由于光谱衰减特性的复制难度较大,因此能够有效防止防伪标签的复制。
然而,由于红外油墨编码层位于红外油墨防伪层上方,并且二者均是采用红外油墨制成,当红外识别装置对标签进行识别时,从红外识别装置中发送的红外光线必须透过编码层才抵达防伪层,势必会对防伪层识别的准确性造成影响。
发明内容
针对上述问题中存在的不足之处,本发明提供了一种可对点阵图形进行隐藏,不会对点阵图形的识别造成影响的通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法。
为实现上述目的,本发明提供一种通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法,包括以下步骤:
S10、在物品表面植入由含碳隐形油墨生成的点阵图形;
S20、在物品表面植入由无碳油墨生成的干扰元素层,并使干扰元素层覆盖在点阵图形上。
上述的通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法,其中,在步骤S10中,还包括以下子步骤:
用户端根据所要植入在物品表面的区域设定所需点阵图形的有效识别面积、形状与逻辑关系,以生成点阵图形图样;
建立物品信息与点阵图形图样的绑定关系,在完成对点阵图形的识别之后,能够反馈与其相对应的物品信息。
上述的通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法,其中,所述点阵图形为肉眼无法分辨、且带有指定形状的标识,所述点阵图形的有效面积不小于3*3平方毫米,由至少一组直径为30~40微米的信息点按规律排列构成,所述信息点中包括方向参考点、中心参考点与检验码,相邻两个所述信息点之间的间距为80微米。
上述的通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法,其中,在步骤S20中,根据点阵图形的有效识别面积设置干扰元素层的面积,并保证干扰元素层能够完全覆盖在点阵图形上。
上述的通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法,其中,所述干扰元素层为单一颜色的色块层、由多种颜色构成的复合色块层或带有图案的图像层。
上述的通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法,其中,用于识别点阵图形的光谱与用于识别干扰元素层的光谱不同,用于识别点阵图形的光谱为红外线,红外线能够透过所述干扰元素层直接识别所述点阵图形。
与现有技术相比,本发明具有以下优点:
1、本发明所使用的点阵图形采用隐形油墨植入在物品表面,因此,可提高其隐蔽性,另外,在点阵图形上遮盖能够将其完全被覆盖的干扰元素层,因此,极大增加了防伪的安全性;
2、由于用于识别点阵图形为肉眼不可见光的光谱与用于识别干扰元素层的肉眼可光的光谱不同,因此,即使在点阵图形上覆盖有干扰元素层也不会影响对点阵图形的读取与识别;
3、由于点阵图形的精度极高,且点阵图形中的信息点微小,在肉眼情况下无法分辨点阵图形的结构,同时,由于点阵图形带有特定的形状,因此,该点阵图形无法通过复印或者扫描的方式复制,从而提高了点阵图形的防伪性能。
附图说明
图1为本发明的流程图;
图2为点阵图形的构成示意图。
具体实施方式
如图1所示,本发明提供一种通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法,包括以下步骤:
S10、在物品表面植入由含碳隐形油墨生成的点阵图形。
在步骤S10中,还包括以下子步骤:
用户端根据所要植入在物品表面的区域设定所需点阵图形的有效识别面积、形状与逻辑关系,以生成点阵图形图样;
建立物品信息与点阵图形图样的绑定关系,在完成对点阵图形的识别之后,能够反馈与其相对应的物品信息。
S20、在物品表面植入由无碳油墨生成的干扰元素层,并使干扰元素层覆盖在点阵图形上。
其中,根据点阵图形的有效识别面积设置干扰元素层的面积,并保证干扰元素层能够完全覆盖在点阵图形上。
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