[发明专利]负型感光性硅氧烷组合物

权利要求书

1.一种负型感光性硅氧烷组合物，其特征在于，包含：

聚硅氧烷；

通过照射放射线而释放出酸的芳香族酰亚胺化合物；以及

溶剂，

其中，所述芳香族酰亚胺化合物由下述式(A0)表示，

式中，R¹¹是碳原子数1～7的脂肪族基团、碳原子数6～18的芳香族基团、或者它们的一部分或全部氢原子被卤素原子取代而得到的基团，

R¹²分别独立地为卤素原子、碳原子数1～10的脂肪族基团、碳原子数6～18的芳香族基团，并且所述脂肪族基团以及芳香族基团可以被取代也可以不被取代，另外也可含有杂原子，

其中，相对于100重量份的所述聚硅氧烷，所述芳香族酰亚胺化合物的添加量为0.001～10重量份。

2.根据权利要求1所述的负型感光性硅氧烷组合物，其中，所述聚硅氧烷包含：

第一聚硅氧烷(Ia)，其预烘烤后的膜能溶于5重量％四甲基氢氧化铵水溶液，并且其溶解速度为以下，

第二聚硅氧烷(Ib)，其预烘烤后的膜相对于2.38重量％四甲基氢氧化铵水溶液的溶解速度为以上。

3.根据权利要求1或2所述的负型感光性硅氧烷组合物，其中，所述芳香族酰亚胺化合物在400～440nm中任一个波长的吸光系数高于在365nm的吸光系数。

4.根据权利要求1或2所述的负型感光性硅氧烷组合物，其进一步包含从由密接增强剂、阻聚剂、表面活性剂、硅烷偶联剂、稳定剂以及光敏剂构成的群组中选出的添加剂。

5.根据权利要求1或2所述的负型感光性硅氧烷组合物，其进一步包含消泡剂。

6.一种固化膜的制造方法，其包含如下工序：

将权利要求1～5中任一项所述的负型感光性硅氧烷组合物涂布于基板而形成涂膜；将涂膜曝光；进行显影。

7.根据权利要求6所述的固化膜的制造方法，其中，在显影后，不包含用于将涂膜进行固化的加热工序。

8.一种固化膜，其特征在于，其由权利要求1～5中任一项所述的负型感光性硅氧烷组合物形成。

9.一种元件，其特征在于，其具备权利要求8所述的固化膜。