[发明专利]触摸屏及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及触摸屏技术领域，特别是涉及一种触摸屏及其制备方法。

背景技术

目前，电子产品中，触摸屏的应用越来越广泛，手机、电脑、MP4、大型显示屏等电子产品中普遍使用触摸屏。

现有的触摸屏本身的硬度较低，易被划伤，且不能防水和防指纹。触摸屏普遍依靠贴保护膜，如聚丙烯保护膜（PP保护膜）、聚对苯二甲酸乙二酯保护膜（PET保护膜）等，来保护触摸屏不易被划伤，并实现防水和防指纹。然而，现有的保护膜易被划伤而需要经常更换，更换成本高，且不易维护，防水和防指纹效果较差。

发明内容

基于此，有必要提供一种且不易被划伤，且防水和防指纹效果较好的触摸屏。

一种触摸屏，包括玻璃基板，还包括依次层叠于所述玻璃基板上的增硬膜和防护膜，所述增硬膜的材料包括氧化铝和氧化钕，所述防护膜的材料为氟化钙。

在其中一个实施例中，所述增硬膜的厚度为

在其中一个实施例中，所述防护膜的厚度为

在其中一个实施例中，所述触摸屏的可见光透过率大于或等于95%。

一种触摸屏的制备方法，包括如下步骤：

提供玻璃基板；

采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜，所述增硬膜的材料包括氧化铝和氧化钕；及采用磁控溅射在所述增硬膜的表面上制备防护膜，得到所述触摸屏，其中，所述防护膜的材料为氟化钙。

在其中一个实施例中，所述采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜及采用磁控溅射在所述增硬膜的表面上制备防护膜的步骤中，所述玻璃基板的温度为120℃～200℃。

在其中一个实施例中，所述采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜及采用磁控溅射在所述增硬膜的表面上制备防护膜的步骤中，镀膜室的真空度为2.5×10^-1Pa～3.50×10^-1Pa。

在其中一个实施例中，所述采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜及采用磁控溅射在所述增硬膜的表面上制备防护膜的步骤中，所述玻璃基板与靶材的距离为15mm～25mm。

在其中一个实施例中，所述采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜及采用磁控溅射在所述增硬膜的表面上制备防护膜的步骤中，所述玻璃基板的运行速度为25mm/s～40mm/s。

在其中一个实施例中，所述采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜的步骤之前，还包括对所述玻璃基板进行减薄的步骤。

上述触摸屏中，增硬膜的材料包括氧化铝和氧化钕，因而增硬膜具有较高的硬度和致密性；防护膜的材料为氟化钙，因而防护膜具有较高的硬度，且具有防水和防指纹功能；通过设置高硬度和高致密性的增硬膜及具有高硬度及防水和防指纹功能的防护膜，使得该触摸屏不易被划伤，且防水和防指纹效果较好，无需额外贴保护膜。

附图说明

图1为一实施方式的触摸屏的结构示意图；

图2为一实施方式的触摸屏的制备方法的流程图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。

请参阅图1，一实施方式的触摸屏100，包括玻璃基板20、增硬膜40和防护膜60。

玻璃基板20为无机玻璃基板，例如，可以为硅铝酸盐玻璃基板或钙钠玻璃基板。

增硬膜40层叠于玻璃基板20的表面上。增硬膜40的材料包括氧化铝（Al₂O₃）和氧化钕（Nd₂O₃）。

氧化铝和氧化钕形成的增硬膜40具有较高的硬度，从而使得触摸屏100不易被划伤。并且，增硬膜40具有较高的可见光透过率，满足触摸屏100的使用需求。同时，增硬膜40具有较高的致密性，对玻璃基板20具有较好的防护作用。

优选地，氧化铝和氧化钕的质量比为95:5，以使增硬膜40的硬度和可见光透过率较高，并合理控制原料成本，合理使用价格较高的钕元素。

综合工艺控制、在玻璃基板20上的附着力和成本考虑，增硬膜40的厚度优选为