[发明专利]一种真空蒸镀装置

权利要求书

1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括：

用于承载及移动基板的基板驱动机构；

用于承载及移动第一掩膜板的第一掩膜板驱动机构，所述第一掩膜板位于所述基板的下方；

用于承载及移动第二掩膜板，以与所述第一掩膜板驱动机构配合，改变所述第一掩膜板与所述第二掩膜板的掩膜板图形区的相互交叠状态的第二掩膜板驱动机构，所述第二掩膜板位于所述第一掩膜板的下方；以及，

蒸发源，所述蒸发源位于所述第二掩膜板的下方。

2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，

所述基板的表面分成为若干个蒸镀子区域；

所述第一掩膜板与所述第二掩膜板相互交叠后形成的有效掩膜板图形区的尺寸小于所述蒸镀子区域的尺寸，或者所述有效掩膜板图形区的尺寸与所述蒸镀子区域的尺寸相同；

所述真空镀膜装置还包括：

蒸镀挡板，位于所述基板与所述蒸发源之间，能够形成与所述有效掩膜板图形区的尺寸相同的蒸镀气体透过区；

用于移动及承载所述蒸镀挡板，以使所述蒸镀气体透过区与所述基板的当前蒸镀子区域相对应的挡板驱动机构；以及，

用于移动及承载所述蒸发源，以使所述蒸发源与所述基板的当前蒸镀子区域相对应的蒸发源驱动机构。

3.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于，

所述真空蒸镀装置还包括用于将所述第一掩膜板和所述第二掩膜板分别与所述基板的当前蒸镀子区域进行对位的对位机构；

并且，当所述第一掩膜板与所述第二掩膜板相互交叠后形成的有效掩膜板图形区的尺寸小于所述蒸镀子区域的尺寸时，

所述真空蒸镀装置还包括：

用于移动及承载所述对位机构移动及承载的对位驱动机构。

4.根据权利要求3所述的真空蒸镀装置，其特征在于，

当所述第一掩膜板与所述第二掩膜板相互交叠后形成的有效掩膜板图形区的尺寸与所述蒸镀子区域的尺寸相同时，

所述蒸镀子区域外侧设有第一对位标记，所述第一掩膜板的边框区设有第二对位标记，所述第二掩膜板的边框区设有第三对位标记；所述对位机构通过所述第一对位标记和第二对位标记对所述第一掩膜板和当前蒸镀子区域进行对位；

所述对位机构通过所述第一对位标记和第三对位标记对所述第二掩膜板和当前蒸镀子区域进行对位。

5.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于，

当所述第一掩膜板与所述第二掩膜板相互交叠后形成的有效掩膜板图形区的尺寸小于所述蒸镀子区域的尺寸时，

所述第一掩膜板与所述第二掩膜板在第一方向上的宽度小于所述基板的当前蒸镀子区域的宽度，使所述有效掩膜板图形区在所述第一方向上的宽度小于所述基板的当前蒸镀子区域的宽度。

6.根据权利要求3所述的真空蒸镀装置，其特征在于，

当所述第一掩膜板与所述第二掩膜板相互交叠后形成的有效掩膜板图形区的尺寸小于所述蒸镀子区域的尺寸时，

所述蒸镀子区域外侧均设有第一对位标记，所述第一掩膜板的边框区设有第二对位标记，所述第二掩膜板的边框区设有第三对位标记，其中，所述对位机构通过所述第一对位标记和所述第二对位标记对所述第一掩膜板和当前蒸镀子区域进行蒸镀起始前的对位，所述对位机构通过所述第一对位标记和所述第三对位标记对所述第二掩膜板和当前蒸镀子区域进行蒸镀起始前的对位；

所述蒸镀子区域外侧还设有第四对位标记，所述第一掩膜板边框区还设有第五对位标记，所述第二掩膜板的边框区还设有第六对位标记，在蒸镀过程中，所述对位机构通过所述第四对位标记和第五对位标记对所述第一掩膜板和当前蒸镀子区域在所述第一方向上相对位置连续移动状态下进行对位，所述对位机构通过所述第四对位标记和所述第六对位标记对所述第二掩膜板和当前蒸镀子区域在所述第一方向上相对位置连续移动状态下进行对位。

7.根据权利要求6所述的真空蒸镀装置，其特征在于，

所述第四对位标记为沿所述第一方向延伸，并贯穿对应的蒸镀子区域的长条形结构。