[发明专利]干燥方法以及干燥装置无效

专利信息
申请号: 201410082063.6 申请日: 2014-03-07
公开(公告)号: CN104096666A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 土田修三;堀川晃宏;中村嘉宏 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: B05D1/42 分类号: B05D1/42;B05D3/04;B05C5/00;B05C13/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 穆德骏;谢丽娜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 干燥 方法 以及 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种干燥方法以及干燥装置。

背景技术

近年来,开发了一种以太阳电池或显示面板、照明装置等为对象,大面积涂敷防反射膜或遮挡特定波长光的波长调整膜等功能性膜的涂敷技术。

然而,若使用模涂法来涂敷功能性膜,则存在在涂敷膜面上产生条纹状的不均的课题。因此,如图13(a)~图13(e)所示的装置(参照专利文献1)广为人知,即在将涂敷了涂敷液111的基板112输送至干燥炉113并使其干燥时,销114不与同一位置接触,从而避免产生涂敷膜的不均。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2006-061755号公报

然而,用上述专利文献1的方法干燥的涂敷膜会反映出在涂敷工序中产生的条纹不均。

详细而言,在涂敷工序中所产生的条纹不均是指产生刚涂敷后的涂敷膜的膜厚呈条纹状的或厚或薄的这种偏差。因此,若直接使其干燥,则将维持上述膜厚偏差来进行干燥,所以在干燥后的涂敷膜上会产生条纹状的不均,并无法抑制。

发明内容

本发明是用于解决上述以往课题的,其目的在于提供一种干燥方法以及干燥装置,其能够在干燥工序中缓和涂敷工序中所产生的条纹不均,并使其不明显,由此来防止产生外观不良。

为达成上述目的,本发明的干燥方法,使供给涂敷液并在涂敷对象物上涂敷所述涂敷液的涂敷液供给部和所述涂敷对象物在与所述涂敷对象物的涂敷面平行的方向上相对移动,而在所述涂敷对象物上涂敷所述涂敷液。接着,输送涂敷了所述涂敷液的所述涂敷对象物,并送往干燥工序。

在干燥工序中,有意地在所述涂敷对象物的表面产生局部的干燥不均,由此,能够使在上述涂敷工序中所产生的条纹不均不明显。

在此,刚涂敷后向干燥装置输送的过程也确定为干燥工序。

发明效果

如以上所述,本发明能够在干燥工序中缓和涂敷工序中所涂敷的涂敷膜的条纹不均,能够使其不明显,从而能够防止产生外观不良。

附图说明

图1为表示本发明的涂敷-干燥工序的示意图。

图2(a)~图2(b)为表示本发明的涂敷膜的不均的图。

图3为表示实施例1中的干燥工序的基板保持的方法的图。

图4为表示实施例1中的干燥不均评价结果的图。

图5(a)~图5(b)为表示实施例1中的干燥工序的基板保持配置的图。

图6(a)~图6(b)为表示实施例2中的干燥工序的基板保持的方法的图。

图7(a)~图7(b)为表示实施例2中的干燥工序的基板保持的其他方法的图。

图8(a)~图8(b)为表示实施例3中的干燥工序的基板保持的方法的图。

图9(a)~图9(b)为表示实施例3中的干燥工序的基板保持的其他方法的图。

图10(a)~图10(b)为表示实施例3中的干燥工序的方法的图。

图11为表示实施例4中的干燥工序的方法的图。

图12为表示实施例5中的干燥工序的方法的图。

图13(a)~图13(e)为表示专利文献1的干燥工序中的基板保持的方法的图。

图中:

1 涂敷液供给机构

2 多孔质材料

3、112   基板

4 涂敷膜

5、15载置台

6 基板输送机构

7、113   干燥炉

8 基板保持机构

9 接触部

具体实施方式

使用图1,对本发明的涂敷-干燥工序加以说明。图1为表示本发明的涂敷-干燥工序的流程的图。本发明的实施工序由涂敷工序(1)与干燥工序(2)两个工序组成。

作为本实施方式,涂敷工序(1)表示使用多孔质涂敷法来进行涂敷的情况。

在图1中,使用涂敷液供给机构1将涂敷液高精度地向多孔质材料2定量供给,使保持于载置台5上的基板3与多孔质材料2在规定的位置接触,之后,使多孔质材料2与基板3相对移动,由此,在基板3上将涂敷液涂敷成面状。

在此,涂敷方法并不限于前述的多孔质涂敷,也适用于狭缝涂敷、帘式涂敷、喷雾涂敷、喷墨涂敷、辊涂敷等。

接着,对干燥工序(2)加以说明。

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