[发明专利]R-T-B类稀土磁体粉末、R-T-B类稀土磁体粉末的制造方法和粘结磁体有效

专利信息
申请号: 201410086934.1 申请日: 2014-03-11
公开(公告)号: CN104051103B 公开(公告)日: 2018-12-14
发明(设计)人: 片山信宏;川崎浩史;森本耕一郎 申请(专利权)人: 户田工业株式会社
主分类号: H01F1/057 分类号: H01F1/057;H01F1/06;B22F9/22
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 稀土 磁体 粉末 制造 方法 粘结
【说明书】:

发明的目的在于,通过促进在磁性相晶界形成连续的富R晶界相,获得磁粉的矫顽力增大、并且也兼备高的剩余磁通密度的R‑T‑B类稀土磁体粉末。本发明中,通过对HDDR处理所得到的、含Al的R‑T‑B类稀土磁体粉末在真空或Ar氛围中以670℃以上820℃以下的温度进行30分钟以上300分钟以下的热处理,能够促进富R晶界相的形成,得到即使降低Al量也能够具备高矫顽力、且具有高剩余磁通密度的R‑T‑B类稀土磁体粉末。

技术领域

本发明涉及R-T-B类稀土磁体粉末及其制造方法。

背景技术

R-T-B类稀土磁体粉末(R表示稀土元素,T表示以Fe为必须成分的过渡金属,B表示硼)具有优异的磁特性,作为汽车等的各种电动机用磁体在工业上被广泛应用。但是,R-T-B类稀土磁体粉末的磁特性依存于温度的变化大,一旦达到高温,矫顽力就会迅速降低。

已知R-T-B类稀土磁体粉末可以通过对原料合金进行HDDR处理(Hydrogenation-Decomposition-Desorption-Recombination:氢化-相分解-脱氢-再结合)而制造。

在通过HDDR处理制造R-T-B类稀土磁体粉末时,迄今为止,通过使磁体粉末中含有各种元素,促进在磁性相晶体晶界形成连续的富R晶界相,使得磁体粉末的矫顽力增大。但是,一旦不构成磁性相的元素的添加量增加,晶界相的磁化就会降低,因而导致磁体粉末的剩余磁通密度降低。

日本特开平9-165601号记载了通过对在R-T-B类合金中添加有微量Dy的原料进行HDDR处理,得到矫顽力优异的磁体粉末。

日本特开2002-09610号记载了通过在RFeBHx粉末中混合由Dy氢化物等构成的扩散粉末,进行扩散热处理工序、脱氢工序,得到Dy等在表面和内部扩散、矫顽力优异的磁体粉末。

日本特开2011-49441号中记载了在通过HDDR处理制得的R-Fe-B系磁体粉末中混合含Zn粉末,并进行混合粉碎、扩散热处理、时效热处理,得到Zn在晶界扩散的、矫顽力优异的磁体粉末。

另外,在国际公开第2011/145674号中记载了在通过HDDR处理制得的R-Fe-B系磁体粉末中混合Nd-Cu粉末,并进行热处理扩散,得到Nd-Cu在主相的晶界扩散的、矫顽力优异的磁体粉末。

一直以来对于通过在原料合金中添加Dy的方法、或者在HDDR工序的中途或HDDR工序后使添加元素扩散,以提高磁体粉末的矫顽力进行着研究。然而,一旦不构成磁性相的元素的添加量增加,晶界相的磁化就会降低,因而存在磁体粉末的剩余磁通密度降低的问题。

发明内容

在本发明中,通过抑制不构成磁性相的元素的添加量,得到具有高剩余磁通密度的R-T-B类稀土磁体粉末。另外,本发明的目的在于,通过HDDR处理后的热处理补偿由于抑制为了促进富R相的形成添加的元素的添加量所造成的富R晶界相的形成能力降低,由此制造具有优异的矫顽力和剩余磁通密度的R-T-B类稀土磁体粉末。

即,本发明的R-T-B类稀土磁体粉末的特征在于,该粉末含有R(R:包括Y的一种以上的稀土元素)、T(T:Fe、或Fe和Co)、B(B:硼)和A1(A1:铝),该粉末的平均组成中,R量为12.5at.%以上14.3at.%以下,B量为4.5at.%以上7.5at.%以下,Al量小于1.0at.%,该粉末包括含有R2Tl4B磁性相的晶粒和晶界相,晶界相含有R(R:包括Y的一种以上的稀土元素)、T(T:Fe、或Fe和Co)、B(B:硼)和Al(A1:铝),晶界相的组成中,R量为13.5at.%以上30at.%以下,Al量为1.5at.%以下(本发明1)。

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