[发明专利]荧光体、发光装置及荧光体的制造方法无效
申请号: | 201410088682.6 | 申请日: | 2014-03-12 |
公开(公告)号: | CN104059643A | 公开(公告)日: | 2014-09-24 |
发明(设计)人: | 福田由美;阿尔贝萨惠子;三石岩 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | C09K11/65 | 分类号: | C09K11/65;H01L33/50 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 肖靖 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 发光 装置 制造 方法 | ||
1.一种荧光体,该荧光体通过在250nm~500nm的波长范围内具有峰值的光的激励而发射在500nm~600nm的波长范围内具有峰值的荧光,并且该荧光体由下式(1)表达:
(M1-xCex)2yAlzSi10-zOuNvCw (1)
其中,
M是包含Sr的金属元素,
x、y、z、u、v和w分别满足以下的条件:
0<x≤1,
0.8≤y≤1.1,
2≤z≤3.5,
0<u≤1.5,
0.01≤w≤0.1,
13≤u+v+w≤15。
2.根据权利要求1的荧光体,其中,M还包含选自包含Ba、Ca和Mg的组的至少一种元素。
3.根据权利要求1的荧光体,其中,Ba、Ca和Mg的量单独地为基于M的总量的10at.%或更少。
4.根据权利要求1的荧光体,所述荧光体具有晶格常数从Sr2Al3Si7ON13的晶格常数改变最多±15%的晶体结构。
5.根据权利要求1的荧光体,所述荧光体具有M-N和M-O的化学键长度分别从Sr2Al3Si7ON13中的Sr-N和Sr-O的化学键长度改变最多±15%的晶体结构。
6.根据权利要求1的荧光体,在根据Bragg-Brendano方法通过Cu-Kα线放射的X射线衍射测量中,在11.1-11.3°、15.0-15.2°、18.25-18.45°、19.75-19.95°、23.0-23.2°、24.85-25.05°、25.55-25.75°、25.95-26.15°、29.3-29.5°、30.9-31.1°、31.6-31.8°、33.0-33.2°、33.6-33.8°、33.95-34.15°、34.35-34.55°、35.2-35.4°、36.05-36.25°、36.5-36.7°、37.2-37.4°、38.95-39.15°、40.45-40.65°、42.8-43.0°、48.3-48.5°、48.75-48.95°、56.4-56.6°、64.45-64.65°、67.55-67.75°和68.85-69.05°的衍射角(2θ)处表现至少10个峰值。
7.一种发光装置,包括:
发光元件,发射在250nm~500nm的波长范围内具有峰值的光;和
发光层,包含根据权利要求1所述的荧光体。
8.根据权利要求7的发光装置,其中,所述发光层还包含绿色发光荧光体和红色发光荧光体。
9.一种用于制造根据权利要求1所述的荧光体的方法,包括以下的步骤:
混合M材料、Al材料、Si材料以及Ce材料从而制备混合物,其中,所述M材料选自包含M的氮化物和碳化物的组,所述Al材料选自包含Al的氮化物、氧化物和碳化物的组,所述Si材料选自包含Si的氮化物、氧化物和碳化物的组,所述Ce材料选自包含Ce的氧化物、氮化物和碳酸盐的组;然后,
烧制所述混合物。
10.根据权利要求9的方法,其中,在1500~2000℃的温度下在5atm或更高的压力下执行所述烧制的步骤。
11.根据权利要求9的方法,其中,在氮气气氛中执行所述烧制的步骤。
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