[发明专利]一种增强金属基挡板吸附薄膜态物质的工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种吸附薄膜态物质的工艺，更具体地说，涉及一种增强金属基挡板吸附薄膜态物质的工艺。

背景技术

真空技术是建立低于大气压力的物理环境，以及在此环境中进行工艺制作、物理测量和科学试验等所需的技术。在真空环境下进行生产制造可获得高质量产品，产品也多以薄膜形式为主。例如，近年来备受人们关注的太阳能电池、柔性显示器、光学影像器件，光感记录材料等产品的核心部件都是在真空环境下进行制造。

随着制造技术的日益完善与发展，真空设备的不断改良与升级，真空制造技术也被更多的领域所应用。目前，真空状态下薄膜态物质生产主要依附于物理气相沉积技术及化学气相沉积技术。这两种技术都具有一个相同的特点，材料在沉积过程不具有方向性，粒子态的沉积材料会充斥整个真空腔，因此，在产品高效率生产的同时也出现了一些问题。真空环境下的连续不间断生产，除产品外，真空室内壁及其它部位也出现了厚度不均的薄膜态物质。薄膜态物质在真空室内壁或其它部位由于经过长时间沉积，最终导致脱落，这不仅影响真空状态，而且产品质量也受到影响。如果及时对真空室进行真空放气清洗，一定程度上会解决脱落的薄膜态物质对真空状态及产品质量的影响，但从另一个角度来看，频繁的清洗也会降低生产效率，从而增加生产成本。

目前，生产厂家多采用在产品周围或真空室内壁处安置金属基挡板用以吸附薄膜态物质，减少对真空室内壁及其它部件的污染，保持真空室内清洁，具有一定的效果。但是，表面光滑金属基挡板其吸附薄膜态物质能力较差、长时间连续工作后会出现薄膜态物质脱落的现象，从而影响产品质量及真空状态。

发明内容

为了克服现有技术中存在的不足，本发明目的是提供一种增强金属基挡板吸附薄膜态物质的工艺。该工艺是将高纯度铝丝采用电弧喷涂制备在金属基挡板表面，制备有铝涂层的金属基挡板在真空环境下对薄膜态物质具有较强的吸附能力，一方面大大地减小了薄膜态物质对真空室内壁的污染、保证了产品质量，另一方面也延长了金属基挡板的使用寿命、提高了生产效率。

为了实现上述发明目的，解决现有技术中所存在的问题，本发明采取的技术方案是：一种增强金属基挡板吸附薄膜态物质的工艺，包括以下步骤：

（a）喷砂清洗，使用颗粒尺寸为35～45目的石英砂对金属基挡板进行喷砂清洗、用于增加金属基挡板表面粗糙度，所述喷砂清洗工艺参数为：压缩空气压力控制在0.6～0.8MPa、喷射距离控制在180～200mm、喷射角度控制在60°～90°；

（b）电弧喷涂，将原材料金属呈熔化或半熔化状态制备到金属基挡板表面、得到涂层厚度为480～520μm、涂层粗糙度为100～120μm,的金属涂层，所述电弧喷涂工艺参数为：电压控制在30～35V、电流控制在180～200A、压缩空气压力控制在50～60psi、喷涂工作距离控制在150～200mm；

（c）水浴清洗，将步骤（b）制备有金属涂层的金属基挡板进行27～33℃温水浴超声清洗，清洗后使用高压氮气吹干，用于提高金属涂层的表面活性。

所述金属基挡板材质选自铝、铜或不锈钢中的一种。

所述原材料金属选自低熔点、无磁性、纯度为99.9%～99.99%的金属铝。

本发明有益效果是：一种增强金属基挡板吸附薄膜态物质的工艺，首先是采用石英砂对金属基挡板进行喷砂清洗、用于增加金属基挡板表面粗糙度，然后将呈熔化或半熔化状态的高纯度的金属铝采用电弧喷涂制备到金属基挡板表面，最后将制备有铝涂层的金属基挡板进行温水浴超声清洗，清洗后使用高压氮气吹干，用于提高铝涂层的表面活性。与已有技术相比，本发明制备有铝涂层的金属基挡板在真空环境下对薄膜态物质具有较强的吸附能力，一方面大大地减小了薄膜态物质对真空室内壁的污染、保证了产品质量，另一方面也延长了金属基挡板的使用寿命、提高了生产效率。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步说明。

实施例1

（a）喷砂清洗，使用颗粒尺寸为35目的石英砂对金属基挡板进行喷砂清洗、用于增加金属基挡板表面粗糙度，所述喷砂清洗工艺参数为：压缩空气压力控制在0.6MPa、喷射距离控制在180mm、喷射角度控制在60°；

（b）电弧喷涂，将纯度为99.9%～99.99%的金属铝呈熔化状态制备到金属基挡板表面、得到铝涂层厚度为480μm、铝涂层粗糙度为120μm,所述电弧喷涂工艺参数为：电压控制在31V、电流控制在180A、压缩空气压力控制在50psi、喷涂工作距离控制在150mm；