[发明专利]一种方块电阻的测量方法有效
申请号: | 201410096391.1 | 申请日: | 2014-03-14 |
公开(公告)号: | CN103884912A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | 舒适;孙冰;张斌;卢珂鑫;石岳;吕志军 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G01R27/02 | 分类号: | G01R27/02 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 方块 电阻 测量方法 | ||
1.一种方块电阻的测量方法,其特征在于,包括:
设置搭桥图形和至少一对电极,其中,所述搭桥图形的材料为待测试材料,每对电极中包括相互不连通的两块电极,所述两块电极通过所述搭桥图形连接;
测量每对电极中两块电极之间的电阻,并根据测量得到的电阻以及搭桥图形的形状,确定所述待测试材料的方块电阻。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,分别将每对电极中的两块电极通过搭桥图形进行连接之后,该方法还包括:
形成覆盖所述电极与所述搭桥图形的保护层;
对所述保护层在对应各电极的位置处进行过孔工艺,并分别形成暴露相应电极的过孔;
所述测量每对电极中两块电极之间的电阻,具体包括:
通过所述过孔测量每对电极中两块电极之间的电阻。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,暴露各电极的过孔大小相同,且各过孔暴露的电极的位置相对电极被搭桥图形连接一侧边缘的距离相等。
4.如权利要求2或3所述的方法,其特征在于,所述电极为金属电极。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述金属电极的材料为金、铂金或银,设置的金属电极的对数为一对。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述根据测量得到的电阻以及搭桥图形的形状,确定所述待测试材料的方块电阻,具体包括:
当所述搭桥图形为具有设定长度和宽度的规则几何图形时;
按照公式Rs=R*d/L,确定连接每对金属电极的搭桥图形的方块电阻;
对确定得到的搭桥图形的方块电阻进行求平均运算,并将得到的平均值作为方块电阻;
其中,Rs为搭桥图形的方块电阻,R为每对金属电极中两块金属电极之间测量得到的电阻,d为连接每对金属电极的搭桥图形的宽度,L为位于两块金属电极之间的搭桥图形的长度。
7.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述金属电极的材料为钼、铝、钕、铜或金属合金,设置的金属电极的对数为至少两对。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,设置的金属电极的对数为两对。
9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述根据测量得到的电阻以及搭桥图形的形状,确定所述待测试材料的方块电阻,具体包括:
当所述搭桥图形为具有设定长度和宽度的规则几何图形,且各搭桥图形位于两块金属电极之间的长度不等时;
按照公式分别确定每两对金属电极的搭桥图形的方块电阻;
对确定得到搭桥图形的方块电阻进行求平均运算,并将得到的平均值作为石墨烯的方块电阻;
其中,Rs为搭桥图形的方块电阻,R1为第一对金属电极中两块金属电极之间的电阻,d1为连接第一对金属电极的搭桥图形的宽度,l1为位于第一对金属电极中两块金属电极之间的搭桥图形的长度,R2为第二对金属电极中两块金属电极之间的电阻,d2为连接第二对金属电极的搭桥图形的宽度,l2为位于第二对金属电极中两块金属电极之间的搭桥图形的长度。
10.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述待测试材料为纳米碳材料。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410096391.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种滤波装置及电子设备
- 下一篇:一种微生物固体发酵罐