[发明专利]一种用于干法刻蚀的承载装置及干法刻蚀装置有效
| 申请号： | 201410098750.7 | 申请日： | 2014-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN103913876B | 公开（公告）日： | 2017-07-04 |
| 发明（设计）人： | 梁魁;陈曦;封宾;袁剑峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 刻蚀 承载 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于干法刻蚀的承载装置，其特征在于，包括：
基台；所述基台上设置有通气孔；
设置于所述基台并用于支撑基板的多个干刻电极；
套装于每个干刻电极并将所述干刻电极与所述基板隔离的保护膜，且所述保护膜的韦氏硬度低于所述基板的韦氏硬度；
在所述保护膜与所述基板接触时，所述保护膜与所述基板的接触面积的直径在0.3mm～0.5mm之间。
2.如权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述保护膜中位于所述干刻电极顶端上方的部分的厚度在0.2mm～0.7mm之间。
3.如权利要求1或2所述的承载装置，其特征在于，所述多个保护膜通过连接膜连接。
4.如权利要求3所述的承载装置，其特征在于，所述多个保护膜与所述连接膜为一体结构。
5.如权利要求4所述的承载装置，其特征在于，所述连接膜通过连接件与所述基台固定连接。
6.如权利要求4所述的承载装置，其特征在于，所述连接膜与所述基台粘接连接。
7.如权利要求4所述的承载装置，其特征在于，所述保护膜为有机复合材料保护膜、塑料保护膜或树脂保护膜。
8.如权利要求7所述的承载装置，其特征在于，所述保护膜为聚四氟乙烯保护膜或聚丙烯树脂保护膜。
9.一种干法刻蚀装置，其特征在于，包括如权利要求1～8任一项所述的承载装置。
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