[发明专利]石平台、其加工方法、制造方法以及基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201410119624.5 申请日: 2014-03-27
公开(公告)号: CN104070608A 公开(公告)日: 2014-10-01
发明(设计)人: 池田文彦 申请(专利权)人: 大日本网屏制造株式会社
主分类号: B28D1/00 分类号: B28D1/00;B23K26/352
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 董雅会;郭晓东
地址: 日本国京*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 平台 加工 方法 制造 以及 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种石平台,由含有被加热膨胀的材料的材质构成,其特征在于,

具有由被照射激光膨胀的材料形成的凸部。

2.根据权利要求1所述的石平台,其特征在于,

该石平台由花岗岩构成,该花岗岩含有被加热膨胀的石英。

3.根据权利要求2所述的石平台,其特征在于,

由在特定条件下向石平台照射激光膨胀的石英形成凸部,该特定条件包括:激光的波长为10600nm,输出功率为20W至25W,对石平台的表面的扫描速度为1000mm/sec至1250mm/sec。

4.根据权利要求2所述的石平台,其特征在于,

由照射激光使石平台的表面温度上升至摄氏400度至摄氏700度膨胀的石英形成凸部。

5.一种石平台的加工方法,该石平台为由含有被加热膨胀的材料的材质构成,其特征在于,

由被照射激光膨胀的材料形成凸部。

6.根据权利要求5所述的石平台的加工方法,其特征在于,

该石平台由花岗岩构成,该花岗岩含有被加热膨胀的石英。

7.根据权利要求6所述的石平台的加工方法,其特征在于,

由在特定条件下向石平台照射激光膨胀的石英形成凸部,该特定条件包括:激光的波长为10600nm,输出功率为20W至25W,对石平台的表面的扫描速度为1000mm/sec至1250mm/sec。

8.根据权利要求6所述的石平台的加工方法,其特征在于,

照射激光使石平台的表面温度上升至摄氏400度至摄氏700度,使石英膨胀来形成凸部。

9.一种石平台的制造方法,其特征在于,

包括:

加工工序,将含有石英的花岗岩加工成具有平面部的平台状;

激光照射工序,通过向所述花岗岩的平面部照射激光,使石英膨胀来形成凸部。

10.一种基板处理装置,将基板载置在石平台上来进行处理,其特征在于,

所述石平台由含有被加热膨胀的材料的材质构成,

具有凸部,该凸部由通过向所述基板的载置面照射激光膨胀的材料形成在该载置面上。

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