[发明专利]一种光刻胶的剥离装置及剥离方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种光刻胶的剥离装置及剥离方法。

背景技术

在液晶显示器（LCD）、发光二极管(LED)、有机发光二极管(OLED)等器件的制作过程中，诸如黑矩阵、像素电极、发光层等部件一般采用构图工艺制备。以构图形成黑矩阵的图形为例进行说明，首先，在基板上形成黑矩阵薄膜，在黑矩阵薄膜上涂覆光刻胶，然后，对光刻胶进行曝光、显影处理，接着，对未覆盖光刻胶的黑矩阵薄膜进行刻蚀处理，最后，通过剥离基板上剩余的光刻胶，最终得到黑矩阵的图形。

在现有的剥离装置中，如图1所示，一般包括：剥离单元101、预清洗单元102和清洗单元103，如图1所示的箭头方向为基板104的运动方向。其中，预清洗单元102是剥离单元101和清洗单元103之间的过渡单元，是基板104进入清洗单元103之前的缓冲区。在实际的生产中，一般基板104的尺寸较大，为了充分地剥离基板104上的光刻胶，以及充分地清洗残留在基板104上的剥离液，剥离装置一般会设置有多个剥离单元101和多个清洗单元103，如图1所示，以3个剥离单元101和3个清洗单元103为例进行说明。

在对基板上的光刻胶进行剥离处理时，基板会依次通过各剥离单元、预清洗单元和各清洗单元，在基板通过各剥离单元的过程中，设置在各剥离单元内的喷头会向基板喷淋剥离液，以剥离基板上的光刻胶；在基板通过预清洗单元的过程中，设置在预清洗单元内的喷头会向基板喷淋清洗液，以清洗残留在基板上的剥离液；在基板通过各清洗单元的过程中，设置在各清洗单元内的喷头会向基板喷淋清洗液，以充分清洗残留在基板上的剥离液。

由于基板的尺寸较大，在基板移动的过程中，有可能会存在部分基板位于预清洗单元且部分基板位于剥离单元的情况。在剥离装置或其下游装置出现故障时，基板有可能停留在预清洗单元和剥离单元之间，此时，基板会成为剥离单元和预清洗单元之间的桥梁，这样，如图1所示，设置在预清洗单元102内的喷头104喷淋到基板105上的清洗液会顺着基板105流入剥离单元101中用于储存剥离液的储罐106内，污染储罐106内的剥离液，改变了剥离液的浓度，进而影响后续的剥离工艺。

因此，在基板停留在预清洗单元和剥离单元之间时，如何避免预清洗单元中的清洗液对剥离单元中的剥离液污染的问题，是本领域技术人员亟需解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供了一种光刻胶的剥离装置及剥离方法，用以在基板停留在预清洗单元和剥离单元之间时，避免预清洗单元中的清洗液对剥离单元中的剥离液污染的问题。

因此，本发明实施例提供了一种光刻胶的剥离装置，包括：设置有用于喷淋剥离液的喷头的剥离单元以及设置有用于喷淋清洗液的喷头的预清洗单元和清洗单元，还包括：

检测单元，用于在检测到基板处于静止状态，所述基板所处位置部分位于所述预清洗单元且部分位于所述剥离单元时，控制所述预清洗单元中的喷头停止对所述基板喷淋清洗液。

本发明实施例提供的上述剥离装置，由于检测单元在检测到基板处于静止状态，基板所处位置部分位于预清洗单元且部分位于剥离单元时，可以控制预清洗单元中的喷头停止对基板喷淋清洗液，这样可以防止预清洗单元中的喷头喷淋到基板上的清洗液会顺着基板流入剥离单元中的储罐内，从而可以避免污染储罐内的剥离液，进而避免影响后续的剥离工艺。

具体地，在本发明实施例提供的上述装置中，所述检测单元具体包括：

监测模块，用于实时监测基板在所述剥离单元、所述预清洗单元以及所述清洗单元中的运动状态；

确定模块，用于在所述监测模块监测到所述基板处于静止状态时，确定所述基板所处位置是否部分位于所述预清洗单元且部分位于所述剥离单元；

控制模块，用于在所述确定模块确定所述基板所处位置为部分位于所述预清洗单元且部分位于所述剥离单元时，控制所述预清洗单元中的喷头停止对所述基板喷淋清洗液。

具体地，在本发明实施例提供的上述装置中，所述确定模块，具体用于确定设置于所述预清洗单元的入口处的感应器是否感应到所述基板的存在；若是，则确定所述基板所处位置为部分位于所述预清洗单元且部分位于所述剥离单元。

进一步地，在本发明实施例提供的上述装置中，确定模块，还用于在所述监测模块监测到所述基板处于移动状态时，确定所述基板是否完全离开所述剥离单元；

控制模块，还用于在所述确定模块确定所述基板完全离开所述剥离单元时，控制所述预清洗单元中的喷头恢复喷淋清洗液。