[发明专利]薄膜的制造方法及制造设备有效

专利信息
申请号: 201410122803.4 申请日: 2014-03-28
公开(公告)号: CN104070691B 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 伊藤和美;木村征克;小川祐二;广幡大树 申请(专利权)人: 宇部兴产株式会社
主分类号: B29C71/02 分类号: B29C71/02;B29C31/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司11002 代理人: 谢顺星,张晶
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 薄膜 制造 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种薄膜的制造方法,其特征在于,进行薄膜的应力衰减处理,

使用具备多个薄膜输送导向器和压薄膜装置的浮置输送装置,其中,所述多个薄膜输送导向器具有设置有气体喷射孔的凸曲面状的薄膜输送面,所述压薄膜装置与所述薄膜输送导向器的薄膜输送面相对,具有在与该薄膜输送面之间以规定间隙配置的凹曲面,在该凹曲面上设置有气体喷射孔,利用从所述薄膜输送导向器的气体喷射孔喷出的加热气体和从所述压薄膜装置的气体喷射孔喷出的加热气体,对薄膜的两面喷吹加热气体,使薄膜交替地在相反方向上弯曲,以非接触状态输送,同时进行所述应力衰减处理。

2.根据权利要求1所述的薄膜的制造方法,其特征在于,改变从多个薄膜输送导向器的气体喷射孔喷出的加热气体的温度,进行所述应力衰减处理。

3.根据权利要求1所述的薄膜的制造方法,其特征在于,对将聚酰亚胺薄膜的前驱体进行加热处理而得到的聚酰亚胺薄膜进行应力衰减处理。

4.根据权利要求3所述的薄膜的制造方法,其特征在于,所述应力衰减处理包括:

工序1,将聚酰亚胺薄膜的温度加热至聚酰亚胺薄膜的玻璃化转变温度Tg-150℃以上;

工序2,在进行工序1后,使聚酰亚胺薄膜的温度成为低于工序1中的加热温度,且设定在聚酰亚胺薄膜的玻璃化转变温度Tg-150℃~聚酰亚胺薄膜的玻璃化转变温度Tg℃的范围内的温度;

工序3,在进行工序2后,将聚酰亚胺薄膜的温度冷却至常温;

其中,在至少所述工序1及所述工序2中,使用所述浮置输送装置。

5.根据权利要求4所述的薄膜的制造方法,其特征在于,所述工序2及所述工序3使聚酰亚胺薄膜的温度阶段性地下降来进行。

6.根据权利要求1所述的薄膜的制造方法,其特征在于,将所述薄膜的输送路径上的沿一个薄膜输送导向器的薄膜输送面弯曲的角度设为90~270°。

7.根据权利要求1所述的薄膜的制造方法,其特征在于,形成如下结构:所述薄膜输送导向器的薄膜输送面由多孔质材料形成,通过该多孔质材料喷出加热气体。

8.一种薄膜的制造设备,其特征在于,具有对薄膜进行应力衰减处理的应力衰减装置,

所述应力衰减装置具备浮置输送装置,该浮置输送装置从气体喷射孔对薄膜喷出加热气体,以非接触状态对薄膜进行加热并输送;

所述浮置输送装置构成为:具备多个薄膜输送导向器和压薄膜装置,其中,所述多个薄膜输送导向器具有设置有气体喷射孔的凸曲面状的薄膜输送面,所述压薄膜装置与所述薄膜输送导向器的薄膜输送面相对,具有在与该薄膜输送面之间以规定间隙配置的凹曲面,并在该凹曲面上设置有气体喷射孔,所述薄膜输送导向器的凸曲面交替地在相反方向上排列,利用从所述薄膜输送导向器的气体喷射孔喷出的加热气体和从所述压薄膜装置的气体喷射孔喷出的加热气体,对薄膜的两面喷吹加热气体,使薄膜交替地在相反方向上弯曲,以非接触状态输送。

9.根据权利要求8所述的薄膜的制造设备,其特征在于,所述多个薄膜输送导向器构成为:能够对从气体喷射孔喷出的气体的温度进行单独设定。

10.根据权利要求8所述的薄膜的制造设备,其特征在于,所述应力衰减装置对将聚酰亚胺薄膜的前驱体进行加热处理而得到的聚酰亚胺薄膜进行应力衰减处理。

11.根据权利要求8所述的薄膜的制造设备,其特征在于,将由所述薄膜输送导向器形成的所述薄膜的输送路径上的沿一个薄膜输送导向器的薄膜输送面弯曲的角度设定为90~270°。

12.根据权利要求8所述的薄膜的制造设备,其特征在于,形成如下结构:所述薄膜输送导向器的薄膜输送面由多孔质材料形成,通过该多孔质材料喷出加热气体。

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