[发明专利]离线机台利用率计算系统及计算方法有效
申请号: | 201410126994.1 | 申请日: | 2014-03-31 |
公开(公告)号: | CN103885428A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | 范荣伟;龚丹莉;刘飞珏;陈宏璘;龙吟 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G05B19/418 | 分类号: | G05B19/418;H01L21/67 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;林彦之 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离线 机台 利用率 计算 系统 计算方法 | ||
技术领域
本发明涉及集成电路制造工艺领域,特别涉及一种半导体设备中离线机台利用率的计算系统和计算方法。
背景技术
随着半导体生产制造技术的发展以及工艺自动化水平的不断提升,在线机台如在线工艺机台、量测机台等的生产利用率的计算越来越准确,然而半导体工艺生产工厂内仍然存在一定种类与数量的离线机台。常用的离线机台包括扫描电镜检查机、光学检查机、离子束切割机和颗粒检查机等。针对在线机台生产利用率的计算,由于其在线特性,可以通过在线的MES软件来收集和控制机台利用率的数据,如中国专利(公开号CN101546186B)公开的机台目标产量处理系统以及方法,先得出各批次晶圆的每一工艺步骤对应的预设时间且将每一工艺步骤及其对应的预设时间以及其所使用的机台予以存储;然后记录各批次晶圆的每一工艺步骤所对应的实际时间且将每一工艺步骤及其对应的实际时间予以存储;然后分别查询出各批次晶圆在起始和终止时间时对应的起始和终止工艺步骤,并统计所有批次晶圆在该起始和终止工艺步骤间所对应的各机台的使用次数以得到各机台的目标产量且予以输出。但该方法仍然是针对在线机台使用情况的统计分析。而针对离线机台生产利用率的计算,目前大部分依靠人工干预,通过不断切换机台状态等进行粗略计算。这种方法需要助理工程师及时并准确地切换机台的真实状态。然而,往往由于测货/扫货时间过长或其他客观原因,造成助理工程师切换机台状态不及时,或忘记切换等,这样便导致机台使用情况统计不准确,对工程师分析及分配资源造成了极大的不便,并导致人力的极度浪费。
针对上述问题,本领域的技术人员致力于开发一种能够有效统计离线机台真实使用情况的方法。
发明内容
本发明的主要目的旨在提供一种可以自动计算离线机台利用率,有效统计离线机台真实使用情况的系统和方法。
为达成上述目的,本发明提供一种离线机台利用率的计算系统,包括机台端文件生成单元,解析单元,数据库和计算单元。其中,所述机台端文件生成单元用于以预定命名规则生成机台端文件,所述机台端文件的文件名包括所述离线机台运行过程中处理的晶圆的代码信息以及所述离线机台的运行参数信息;所述解析单元与所述机台端文件生成单元相连,用于解析各所述机台端文件的文件名,以撷取所述离线机台处理每一所述晶圆时的运行参数信息;所述数据库用于存储每一所述离线机台的运行预备时间以及关于所述离线机台的运行参数的运行时间函数;计算单元分别与所述解析单元、所述数据库相连,用于根据所述离线机台处理每一所述晶圆时的运行参数信息和所述运行时间函数计算每一所述晶圆的运行时间,并根据各所述运行时间及所述运行预备时间获得所述离线机台处理全部所述晶圆的总体运行时间及所述离线机台的利用率。
优选地,所述离线机台的运行参数包括代表该离线机台所运行的程式的类型的第一参数以及代表该类型程式运行情况的第二参数。
优选地,所述离线机台的运行预备时间包括晶圆传送时间以及晶圆对准时间。
优选地,所述计算单元根据所述离线机台处理全部所述晶圆的总体运行时间及该离线机台的可利用时间计算该离线机台的利用率。
优选地,所述离线机台为扫描电镜检查机,光学检查机,离子束切割机或颗粒检查机。
本发明还提供一种离线机台利用率的计算方法,包括以下步骤:
选取一离线机台,所述离线机台生成有以预定命名规则生成机台端文件,所述机台端文件的文件名包括该离线机台运行过程中处理的晶圆的代码信息以及该离线机台的运行参数信息;
解析该离线机台的各所述机台端文件的文件名,以撷取该离线机台处理每一所述晶圆时的运行参数信息;
查询数据库,获得该离线机台的运行预备时间以及关于该离线机台的运行参数的运行时间函数;以及
根据该离线机台处理每一所述晶圆时的运行参数信息和所述运行时间函数计算每一所述晶圆的运行时间,并根据各所述运行时间及所述运行预备时间获得该离线机台处理全部所述晶圆的总体运行时间及该离线机台的利用率。
优选地,该离线机台的运行参数包括代表该离线机台所运行的程式的类型的第一参数以及代表该类型程式运行情况的第二参数。
优选地,该离线机台的运行预备时间包括晶圆传送时间以及晶圆对准时间。
优选地,所述计算方法还包括根据该离线机台处理全部所述晶圆的总体运行时间及该离线机台的可利用时间计算该离线机台的利用率。
优选地,该离线机台为扫描电镜检查机,光学检查机,离子束切割机或颗粒检查机。
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