[发明专利]图形修正方法

权利要求书

1.一种图形修正方法，其特征在于，包括：

提供初始图形，所述初始图形包括若干接触孔图形和若干互连线图形，所述接触孔图形与互连线图形重叠，所述接触孔图形为矩形，所述接触孔图形垂直于互连线图形的边长为第一边长，平行于互连线图形的边长为第二边长；

判断所述待修正接触孔图形位于密集区或孤立区；

当所述待修正接触孔图形位于孤立区时，对所述待修正接触孔图形进行第一图形变化，使所述待修正接触孔图形的第一边长和第二边长增大；

当所述待修正接触孔图形位于密集区时，对所述待修正接触孔图形进行第二图形变化，使所述待修正接触孔图形的第二边长增大，且第一边长小于第二边长。

2.如权利要求1所述的图形修正方法，其特征在于，还包括：当所述待修正接触孔图形位于密集区时，对所述待修正接触孔图形进行设计规则检测；并根据所述设计规则检测的结果改变所述待修正接触孔图形的第一边长。

3.如权利要求2所述的图形修正方法，其特征在于，所述设计规则检测包括：测试所述待修正接触孔图形的第一边长、以及所述待修正接触孔图形到相邻互连线图形之间的距离。

4.如权利要求2所述的图形修正方法，其特征在于，当所述待修正接触孔图形和互连线图形符合设计规则时，测试所述待修正接触孔图形到相邻接触孔图形的距离，获取第二距离；当所述第二距离小于第二预设尺寸时，使所述待修正接触孔图形的第一边长减小；当所述第二距离大于第二预设尺寸时，使所述待修正接触孔图形的第一边长增大。

5.如权利要求4所述的图形修正方法，其特征在于，当所述第二距离小于或等于第二预设尺寸时，所述第二距离越小，所述待修正接触孔图形的第一边长减小的尺寸越大。

6.如权利要求4所述的图形修正方法，其特征在于，当所述第二距离大于第二预设尺寸时，所述第二距离越大，所述待修正接触孔图形的第一边长增大的尺寸越大。

7.如权利要求4所述的图形修正方法，其特征在于，所述第二预设尺寸为500埃～700埃。

8.如权利要求2所述的图形修正方法，其特征在于，当所述待修正接触孔图形违反设计规则时，使所述待修正接触孔图形的第一边长增大，且所述第一边长增大的尺寸小于第二边长增大的尺寸。

9.如权利要求8所述的图形修正方法，其特征在于，还包括：测试所述待修正接触孔图形到相邻接触孔图形的距离，获取第二距离；当所述第二距离越大，所述待修正接触孔图形的第一边长增大的尺寸越大。

10.如权利要求1所述的图形修正方法，其特征在于，确定所述待修正接触孔图形位于密集区还是孤立区的方法包括：测试所述待修正接触孔图形到相邻互连线图形的距离，获取第一距离；当所述第一距离大于第一预设尺寸时，所述待修正接触孔图形位于孤立区；当所述第一距离小于第一预设尺寸时，所述待修正接触孔图形位于密集区。

11.如权利要求10所述的图形修正方法，其特征在于，所述待修正接触孔图形的两侧分别具有互连线图形。

12.如权利要求11所述的图形修正方法，其特征在于，当所述待修正接触孔图形的两侧到相邻互连线图形的第一距离均小于第一预设尺寸时，所述待修正接触孔图形的第一边长的变化到第一尺寸；当所述待修正接触孔图形的第一侧到相邻互连线图形的第一距离小于第一预设尺寸，所述待修正接触孔图形的第二侧到相邻互连线图形的第一距离大于第一预设尺寸时，所述待修正接触孔图形的第一边长的变化到第二尺寸，所述第二尺寸大于第一尺寸。

13.如权利要求1所述的图形修正方法，其特征在于，确定所述待修正接触孔图形位于密集区还是孤立区的方法包括：测试所述待修正接触孔图形到相邻接触孔图形的距离，获取第二距离；当所述第二距离大于第一预设尺寸时，所述待修正接触孔图形位于孤立区；当所述第二距离小于第一预设尺寸时，所述待修正接触孔图形位于密集区。

14.如权利要求10或13所述的图形修正方法，其特征在于，所述第一预设尺寸大于1000埃。

15.如权利要求1所述的图形修正方法，其特征在于，在所述初始图形中，所述接触孔图形的第一边长为60纳米～70纳米，所述接触孔图形的第二边长为60纳米～70纳米。

16.如权利要求1所述的图形修正方法，其特征在于，若干互连线图形平行排列。