[发明专利]一种防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃包括玻璃基片以及在玻璃基片上依次形成的隔离层、防眩光膜层及可见光减反射膜层，所述隔离层、防眩光膜层及可见光减反射膜层的总厚度为145～270nm；所述隔离层的材料为二氧化硅；所述防眩光膜层是利用酸腐蚀氧化锌或掺杂氧化锌得到的凹凸纳米-微米复合孔结构绒面膜层，孔尺寸在10～500nm；所述可见光减反射膜层包括折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜层及二氧化硅膜层。

2.如权利要求1所述的防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃，其特征在于，所述酸为盐酸、硫酸、醋酸或硝酸，所述酸的重量浓度为3%～8%。

3.如权利要求1所述的防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃，其特征在于，所述隔离层的厚度为5～20纳米；所述防眩光膜层的厚度为60～110nm；所述折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜层厚度为10～20nm；所述二氧化硅膜层厚度70～120nm。

4.如权利要求1所述的防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃，其特征在于，所述掺杂氧化锌为铝、硼、镓或铟掺杂氧化锌。

5.如权利要求1所述的防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃，其特征在于，所述折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜层的材料为二氧化钛、氧化铌、氧化锆、氧化锡、氧化锌或铝掺杂氧化锌。

6.如权利要求1所述的防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，它包括以下步骤：

1）用磁控溅射法在玻璃上镀制隔离层；

2）用磁控溅射法在隔离层上镀制氧化锌或掺杂氧化锌膜层，然后用重量浓度3%～8%的酸腐蚀10～50秒，形成凹凸纳米-微米复合孔结构绒面的防眩光膜层，孔尺寸在10～500nm；

3）用磁控溅射法在凹凸纳米-微米复合孔结构绒面层上镀制可见光减反射膜层。

7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述步骤1）中用反应磁控溅射法沉积二氧化硅隔离层，反应条件为：氧气和氩气流量比例5～35：100，溅射气压2.5×10^-1～4.0×10^-1Pa，靶材为纯硅、硅铝或硅硼，沉积的二氧化硅膜层厚度5～20nm。

8.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述步骤2）用磁控溅射法在隔离层上镀制氧化锌或掺杂氧化锌膜层的工艺条件为：氩气做工作气体，溅射气压2.5×10^-1～4.0×10^-1Pa，靶材为氧化锌或者铝、硼、镓或铟掺杂氧化锌，沉积的膜层厚度60～110nm。

9.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述步骤4）镀制可见光减反射膜层的步骤为：首先用铝掺杂氧化锌、二氧化钛、氧化铌、氧化锆、氧化锡、或氧化锌做溅射镀膜靶材，用氩气做工作气体，溅射气压2.5×10^-1～4.0×10^-1Pa沉积折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜层，所述膜层厚度为10～20nm；然后在所述折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜层上用反应磁控溅射法沉积二氧化硅膜层，氧气和氩气流量比例5～35：100，溅射气压2.5×10^-1～4.0×10^-1Pa，用纯硅、硅铝或硅硼做靶材，二氧化硅膜层厚度70～120nm。

10.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在步骤1）的镀膜前将玻璃清洗、干燥得到洁净玻璃，然后将洁净玻璃在常压氮气氛围，用500～1000V电压形成的等离子体处理洁净玻璃表面。