[发明专利]一种防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明属于显示器件封装玻璃盖板、橱窗、以及机车和轮船窗玻璃等使用玻璃的领域，具体涉及一种防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

在电子显示器件封装玻璃盖板、橱窗等使用玻璃作为视窗的领域，由于普通玻璃自身存在8%的反射光、以及发光器件从玻璃视窗透射出强烈的光线，造成在一般环境中往往产生眩光，使人的视觉产生疲劳。为了克服眩光，减轻视觉疲劳，就需要减少或分散显示器件发射出的光强度、以及减少玻璃自身的反射光。

根据薄膜光学理论，减少玻璃反射光的方法就是在玻璃表面上镀一层低于玻璃折射率的介质膜，如果在该低折射率膜层上再形成一定的孔隙率，膜层的折射率还要低，减反射的效果更好；减少玻璃眩光现象的最简单的方法就是在玻璃表面上形成绒面，使光线形成漫反射/透射，达到防眩光的目的。

目前，在玻璃上镀制减反射膜的方法主要有溅射法、蒸镀法、湿化学法，其中成熟的磁控溅射方法镀膜，具有膜层均一性好、膜层厚度易控制、膜层与玻璃结合好等特点，已经在生产镀膜玻璃的领域得到了广泛应用。

目前，在玻璃上产生防眩光的方法就是采取氢氟酸腐蚀的方法,在玻璃表面腐蚀掉一定量的氧化硅，形成凹凸绒面,形成对光的漫反射。该方法的特点是方法简单，腐蚀速度快。但是，该方法的缺点也是危害极大的，氢氟酸是腐蚀性极强的酸，对人体、对大气、对土壤环境都会产生极大侵害和污染，国家严格控制使用。因此，急需开发防眩光与减反射效果好并且制作方法简单环保的双功能镀膜玻璃。

发明内容

本发明的目的在于提供一种防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃及其制备方法。

本发明为解决上述技术问题所采用的方案为:

一种防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃，所述镀膜玻璃包括玻璃基片以及在玻璃基片上依次形成的隔离层、防眩光膜层及可见光减反射膜层，所述隔离层、防眩光膜层及可见光减反射膜层的总厚度为145～270nm；所述隔离层的材料为二氧化硅；所述防眩光膜层是利用酸腐蚀氧化锌或掺杂氧化锌得到的凹凸纳米-微米复合孔结构绒面膜层，孔尺寸在10～500nm；所述可见光减反射膜层包括折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜层及二氧化硅膜层。

上述方案中，所述酸为盐酸、硫酸、醋酸或硝酸，所述酸的重量浓度为3%～8%。

上述方案中，所述隔离层的厚度为5～20纳米；所述防眩光膜层的厚度为60～110nm；所述折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜层厚度为10～20nm；所述二氧化硅膜层厚度70～120nm。

上述方案中，所述掺杂氧化锌为铝、硼、镓或铟掺杂氧化锌。

上述方案中，所述折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜层的材料为二氧化钛、氧化铌、氧化锆、氧化锡、氧化锌或铝掺杂氧化锌。

一种防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，它包括以下步骤：

1）用磁控溅射法在玻璃上镀制隔离层；

2）用磁控溅射法在隔离层上镀制氧化锌或掺杂氧化锌膜层，然后用重量浓度3%～8%的酸腐蚀10～50秒，形成凹凸纳米-微米复合孔结构绒面的防眩光膜层，孔尺寸在10～500nm；

3）用磁控溅射法在凹凸纳米-微米复合孔结构绒面层上镀制可见光减反射膜层。

上述方案中，所述步骤1）中用反应磁控溅射法沉积二氧化硅隔离层，反应条件为：氧气和氩气流量比例5～35：100，溅射气压2.5×10^-1～4.0×10^-1Pa，靶材为纯硅、硅铝或硅硼，沉积的二氧化硅膜层厚度5～20nm。

上述方案中，所述步骤2）用磁控溅射法在隔离层上镀制氧化锌或掺杂氧化锌膜层的工艺条件为：氩气做工作气体，溅射气压2.5×10^-1～4.0×10^-1Pa，靶材为氧化锌或者铝、硼、镓或铟掺杂氧化锌，沉积的膜层厚度60～110nm。