[发明专利]透明绝缘膜形成用组合物

权利要求书

1.一种透明绝缘膜形成用组合物，其含有基态在4f轨道或5d轨道收容电子的元素的氧化物作为(A)填充材料，并且能够形成在使用厚度2μm的试样进行测定时波长400nm的光的透射率为90％以上的膜，

所述(A)填充材料的一次粒径为200μm以下，所述(A)填充材料的含量相对于所述透明绝缘膜形成用组合物中的固体成分的质量为1质量％～80质量％，所述氧化物为选自La₂O₃、CeO₂、Nd₂O₃、Gd₂O₃、Ho₂O₃、Lu₂O₃、HfO₂及Ta₂O₅中的至少一者，

所述透明绝缘膜形成用组合物还含有(B1)具有脂环式环氧基的化合物及(C)产酸剂，或者含有具有烯属不饱和双键的单体的聚合物，

所述(C)产酸剂的含量相对于所述透明绝缘膜形成用组合物中的所述(B1)具有脂环式环氧基的化合物的总量100质量份为0.1质量份～50质量份，

所述透明绝缘膜形成用组合物中的固体成分中的所述具有烯属不饱和双键的单体的聚合物的含量为20质量％～99质量％。

2.根据权利要求1所述的透明绝缘膜形成用组合物，其中，所述(A)填充材料中含有的所述元素是收容于5d轨道的电子数为5d轨道成为半充满壳层时的电子数以下的元素、或者收容于4f轨道的电子数为4f轨道成为半充满壳层时的电子数以下的元素。

3.根据权利要求1所述的透明绝缘膜形成用组合物，其中，所述(B1)具有脂环式环氧基的化合物为下述式(1)所示的化合物，

式(1)中，X为选自单键、－O－、－O－CO－、－S－、－SO－、－SO₂－、－CH₂－、－C(CH₃)₂－、－CBr₂－、－C(CBr₃)₂－、－C(CF₃)₂－及－R¹⁹－O－CO－中的2价基团，R¹⁹为碳数1～8的亚烷基，R¹～R¹⁸分别独立地为选自氢原子、卤素原子及有机基团中的基团。

4.根据权利要求1或3所述的透明绝缘膜形成用组合物，其中，所述具有烯属不饱和双键的单体的聚合物为含有选自(甲基)丙烯酸及(甲基)丙烯酸酯中的1种以上的单体的聚合物。

5.根据权利要求4所述的透明绝缘膜形成用组合物，其中，所述具有烯属不饱和双键的单体的聚合物是含有选自(甲基)丙烯酸及(甲基)丙烯酸酯中的1种以上的单体的聚合物、且为包含源自具有含环氧基的基团的(甲基)丙烯酸酯的单元的树脂。

6.根据权利要求4所述的透明绝缘膜形成用组合物，其中，所述具有烯属不饱和双键的单体的聚合物是含有选自(甲基)丙烯酸及(甲基)丙烯酸酯中的1种以上的单体的聚合物、且为包含源自具有含脂环式骨架的基团的(甲基)丙烯酸酯的单元的树脂。

7.根据权利要求4所述的透明绝缘膜形成用组合物，其中，所述具有烯属不饱和双键的单体的聚合物是含有选自(甲基)丙烯酸及(甲基)丙烯酸酯中的1种以上的单体的聚合物且为包含源自(甲基)丙烯酸的单元、源自具有脂环式烃基的(甲基)丙烯酸酯的单元和源自具有含脂环式环氧基的基团的(甲基)丙烯酸酯的单元的树脂。

8.一种透明绝缘膜，其使用权利要求1所述的透明绝缘膜形成用组合物而得。

9.一种显示装置，其具备权利要求8所述的透明绝缘膜。