[发明专利]透明绝缘膜形成用组合物

说明书

本发明提供能够形成透明性优异且介电常数高的透明绝缘膜的透明绝缘膜形成用组合物、使用该透明绝缘膜形成用组合物而得到的透明绝缘膜、以及具备该透明绝缘膜的显示装置。在该透明绝缘膜形成用组合物中配合选自基态在4f轨道或5d轨道收容电子的元素的单质、氧化物、螯合化合物、盐及合金中的1种以上作为填充材料。作为透明绝缘膜形成用组合物，优选：含有(A)填充材料、(B1)具有含脂环式环氧基的基团的化合物及(C)产酸剂的组合物；或者含有(A)填充材料及(B2)树脂且(B2)树脂为选自硅酮树脂、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚醚、聚硫醚及具有烯属不饱和双键的单体的聚合物中的1种以上的组合物。

技术领域

本发明涉及透明绝缘膜形成用组合物、使用该透明绝缘膜形成用组合物而得到的透明绝缘膜、以及具备该透明绝缘膜的显示装置。

背景技术

在液晶显示装置之类的显示装置中，绝缘膜之类的材料需要有效地透射从背光灯之类的光源发出的光。因此，为了形成绝缘膜，而要求透明性优异且介电常数高的材料。

这样，作为透明性优异且介电常数高的、用于形成绝缘膜的材料，例如提出了含有热固化性树脂之类的树脂、具有钙钛矿(perovskite)系晶体结构的BaTiO₃之类的无机物的粒子和有机溶剂的糊剂组合物(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007－214107号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，使用专利文献1中记载的糊剂组合物而形成的绝缘膜的透明性尚有改善的余地。认为可以通过减小具有特定晶体结构的无机物粒子的粒径来改善绝缘膜的透明性。但是，在该情况下，存在使所形成的绝缘膜的介电常数降低的问题。由此，在形成透明绝缘膜时，很难使所形成的透明绝缘膜兼顾高透明性和高介电常数。

本发明鉴于以上的问题而完成，其目的在于提供能够形成透明性优异且介电常数高的透明绝缘膜的透明绝缘膜形成用组合物、使用该透明绝缘膜形成用组合物而得到的透明绝缘膜、以及具备该透明绝缘膜的显示装置

用于解决课题的手段

本发明人等发现可以通过在透明绝缘膜形成用组合物中配合选自基态在4f轨道或5d轨道收容电子的元素的单质、氧化物、螯合化合物、盐及合金中的1种以上作为填充材料来解决上述课题，由此完成本发明。

本发明的第一个方案为一种透明绝缘膜形成用组合物，其含有选自基态在4f轨道或5d轨道收容电子的元素的单质、氧化物、螯合化合物、盐及合金中的1种以上作为(A)填充材料，并且能够形成在使用厚度2μm的试样进行测定时波长400nm的光的透射率为90％以上的膜。

本发明的第二个方案为一种透明绝缘膜，其使用第一方案的透明绝缘膜形成用组合物而得。

本发明的第三方案为种显示装置，其具备第二方案的透明绝缘膜。

发明效果

根据本发明，可以提供能够形成透明性优异且介电常数高的透明绝缘膜的透明绝缘膜形成用组合物、使用该透明绝缘膜形成用组合物而得的透明绝缘膜、以及具备该透明绝缘膜的显示装置。

具体实施方式

＜＜透明绝缘膜形成用组合物＞＞

本发明的透明绝缘膜形成用组合物(以下，也记载为膜形成用组合物)含有选自基态在4f轨道或5d轨道收容电子的元素的单质、氧化物、螯合化合物、盐及合金中的1种以上作为(A)填充材料。此外，本发明的透明绝缘膜形成用组合物能够形成在使用厚度2μm的试样进行测定时波长400nm的光的透射率为90％以上的膜。