[发明专利]一种掩模板

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩模板。

背景技术

在显示技术领域，掩模板作为半导体显示行业非常重要的构图工具，用于实现将掩模板上的掩模图形以1:1的比例转移到目标衬底上，形成目标衬底上可导电的图形或狭缝图形。

掩模板包括遮光区域和透光区域，遮光区域设置有多个位于不同区域的遮光层用于遮光，一般的遮光层为刻蚀性能较好的导电层，容易聚集电荷发生静电释放（Electro-Static discharge，ESD）的不良现象。

掩模板上聚集电荷的原因主要包括以下方面：在搬运掩模板或清洁掩模板等过程中，由于摩擦作用很容易使得掩模板上聚集电荷形成静电，静电聚集到一定量时就会发生ESD不良，静电释放时会将掩模板上的遮光层击穿，破坏遮光层对应的设定的掩模图形，一旦投入生产会造成巨大的经济损失。

例如：在实际生产产品的过程中，且在利用掩模板曝光的过程中，不可避免地会有异物掉落到掩模板上。为了避免所述掩模板上的异物对产品造成灾难性的重复性不良，现有技术通常通过洁净干燥的压缩空气（Clean Dry Air，CDA）清洗掩模板，在进行掩模板清洁操作的过程中，CDA气体气流会与掩模板上的遮光层产生摩擦，从而在遮光层上产生一定量的静电，由于衬底一般为绝缘性质的玻璃，遮光层上的静电无法通过衬底及时释放，静电聚集到一定程度时，就会在可导电的遮光层上传导，并在电荷积累到一定程度的地方发生ESD，从而造成掩模板图形的损坏，造成巨大的经济损失。

另外，在人工搬运掩模板的过程中也很容易因接触摩擦在掩模板上聚集电荷产生静电，可能会发生ESD不良现象。

如图1所示，现有技术的掩模板主要结构包括可透光的衬底1、位于衬底1上的透光区域和遮光区域，所述遮光区域设置有至少两个具有设定掩模图形且可导电的遮光层。其中一种遮光区域的掩模图形如图1所示，包括第一遮光层11、第二遮光层12、第三遮光层13、第四遮光层14、第五遮光层15、第六遮光层16；各遮光层相互独立保持绝缘。第一遮光层11为梳状结构，其余遮光层分别为条状结构，第二遮光层12至第六遮光层16与第一遮光层11中的梳齿状结构间隔排列。如图1虚线框围设的区域所示，虚线框围设的区域内的梳状结构较密集，此处容易聚集较大量的电荷，电荷在第一遮光层11、第二遮光层12、第三遮光层13、第四遮光层14、第五遮光层15、或第六遮光层16上无法快速释放，积聚在某一遮光层上，容易产生ESD现象，静电释放过程中较大的电流会击穿遮光层，破坏遮光层的掩模图形。

发明内容

本发明实施例提供了一种掩模板，用以提供一种新型结构的掩模板，避免掩模板上因静电释放而破坏掩模板的掩模图形的问题。

本发明实施例提供的掩模板包括：衬底和所述衬底上的透光区域和遮光区域，所述遮光区域设置有至少两个分别具有设定掩模图形且可导电的遮光层，还包括：一个或多个分别用于电连接至少两个所述遮光层的连接线，所述连接线的宽度为0.3～1.5μm。

较佳地，所述连接线的宽度为0.5～1μm。

较佳地，所述连接线的宽度为0.8μm。

较佳地，所述连接线与所述遮光层同层设置且制作材料相同。

较佳地，所述遮光层和所述连接线为铬金属层。

较佳地，还包括设置于所述掩模板上的接地母线，所述各连接线与所述接地母线电连接，所述接地母线的宽度为0.3～1.5μm。

较佳地，还包括：位于所述衬底的出光侧设置于各遮光层上折射率大于1的防衍射膜层，所述遮光层上的防衍射膜层的图案与所述遮光层对应的设定掩模图形相同，所述遮光层与所述防衍射膜层叠层式设置。

较佳地，所述防衍射膜层为三氧化二铬膜层。

较佳地，还包括：位于所述遮光层与所述衬底之间且位于至少与所述遮光层对应区域的缓冲层。

较佳地，所述缓冲层为氮化铬膜层。