[发明专利]一种圆环杆与平板连杆的二维正方晶格光子晶体

说明书

技术领域

本发明涉及宽绝对禁带二维光子晶体。

背景技术

1987年，美国Bell实验室的E.Yablonovitch在讨论如何抑制自发辐射和Princeton大学的S.John在讨论光子区域各自独立地提出了光子晶体（Photonic Crystal）的概念。光子晶体是一种介电材料在空间中呈周期性排列的物质结构，通常由两种或两种以上具有不同介电常数材料构成的人工晶体。

在频域，对任意方向传播的TE或TM波，电磁场态密度为零的频率区间定义为光子晶体的TE或TM完全禁带，同时为TE和TM完全禁带的频率区间被称为光子晶体的绝对禁带。设计具有完全禁带或绝对禁带的光子晶体，能够简单而有效地调控介质的宏观电磁特性，包括选择其中传播电磁波的频带、模模式和传输路径，控制其中介质的吸收或辐射等特性，是控制光子运动、制作各种光子器件的基础。

对于各种光子晶体器件而言，光子禁带越宽，器件的性能越好，例如，光子禁带越宽，则光子晶体波导的工作频带越宽、传输损耗越小，光子晶体谐振腔和激光器的品质因子越高，光子晶体对自发辐射的约束效果越好，光子晶体反射镜的反射率越高等。具有完全禁带和绝对禁带的光子晶体因对不同传播方向上的光都存在光子带隙。

现有技术中采用三角晶格、六角晶格等非正方晶格结构以获得大的相对禁带，但是在光子晶体集成光路中，不易于提供光路的集成度，而现有技术中的正方晶格光子晶体的绝对禁带宽度很小。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术中的不足之处，提供一种易于光路集成，且具有非常大的绝对禁带宽度相对值的二维正方晶格光子晶体。

本发明的目的是通过下述技术方案予以实现。

本发明的圆环杆与平板连杆的二维正方晶格光子晶体包括高折射率介质柱和低折射率背景介质柱；所述的光子晶体结构由元胞按正方晶格排列而成；所述的高折射率介质柱由平板介质柱与圆环介质柱连接构成；所述的平板介质柱的宽度D为0.01a～0.2a，所述的圆环柱的外径R为0.1a～0.5a，所述的圆环柱的内外径之差与圆环外径的比值T为0.01～0.99。

所述元胞的左平板连接杆的最左端到右平板连接杆的最右端的距离为a；所述元胞的下平板连接杆的最底端到上平板连接杆的最顶端的距离为a。

所述的高折射率介质为硅、砷化镓、二氧化钛或者折射率大于2的高折射率介质；

所述的高折射率介质为硅，其折射率为3.4。

所述的低折射率背景介质为空气、氟化镁、二氧化硅或者低折射率介质。

所述的低折射率背景介质为空气。

设置0.029a≤D≤0.124a，0.26a≤R≤0.38a，0.206≤T≤0.99，所述光子晶体结构的绝对禁带相对值大于5%。

设置0.029a≤D≤0.086a，0.26a≤R≤0.38a，0.304≤T≤0.99，所述光子晶体结构的绝对禁带相对值大于10%。

设置0.0385a≤D≤0.05275a，0.28a≤R≤0.34a，0.4755≤T≤0.99，所述光子晶体结构的绝对禁带相对值大于15%。

设置D为0.049a，R为0.296a，T为0.838，绝对禁带宽度相对值为19.026%。

本发明的圆环杆与平板连杆的二维正方晶格光子晶体，可广泛应用于大规模集成光路设计中。它与现有技术相比，有如下积极效果。

（1）利用平面波展开法进行大量的精细研究得到，最大的绝对禁带相对值和其对应的参数；通常将绝对禁带宽度与禁带中心频率的比值作为禁带宽度的考察指标，称之为绝对禁带宽度相对值。

（2）本光子晶体结构具有非常大的绝对禁带，可以为光子晶体器件的设计和制造带来更大的方便和灵活性。

（3）光子晶体集成光路中，光路中不同光学元件之间以及不同光路之间易于连接和耦合，采用正方晶格结构可以使光路简洁，且易于提供光路的集成度。

（4）设计简洁，易于制作，降低了制作成本。

附图说明

图1是本发明的圆环杆与平板连杆的二维正方晶格光子晶体的结构示意图。

图2是本发明圆环柱的内外径之差与圆环外径的比值T对于绝对禁带相对值的影响图。

图3是本发明的光子晶体结构对应最大的绝对禁带宽度相对值的能带图。

图4为对应本发明光子晶体最大绝对禁带相对值的参数的结构图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的实施方式进行详细描述。