[发明专利]感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件

说明书

技术领域

本发明是有关于一种聚硅氧烷组合物，且特别是有关于一种感光性聚硅氧烷组合物。

背景技术

近年来，随着半导体工业、液晶显示器(liquid crystal display,LCD)以及有机电激发光显示器(organic electro-luminescence display,OELD)的发展，伴随而来对于尺寸缩小化的需求，使得微影(photolithography)制程成为非常重要的议题。在微影(photolithography)制程中，必须将所需的图案(pattern)的微细化(finer)，以达到尺寸缩小化的目的。一般而言，微细化的图案是由对具有高解析(resolution)及高感光性(photosensitivity)的正型感光性组合物(positive photosensitive composition)进行曝光及显影来形成。值得一提的是，正型感光性组合物通常是以聚硅氧烷(polysiloxane)为主要成分。

日本特开2008-107529号揭示一种可形成高透明度(transparency)固化膜(hardened film)的感光性组合物。所述感光性组合物包括聚硅氧烷(polisiloxane)，其中上述聚硅氧烷是由含有环氧丙烷基(oxetanyl)或丁二酸酐基(即氧基二羰基(oxydicarbonyl group))的硅烷单体经共聚合(copolymerize)来形成。值得一提的是，所述的感光性组合物因具有亲水性结构而在稀薄碱性显影剂(alkali developer)中具有高溶解度(solubility)。然而，以所述的感光性树脂组合物来形成的保护膜与被保护元件之间的密合性却不佳，因此不利于应用。

于是，亟需发展一种感光性组合物，其所形成的保护膜与被保护元件之间具有良好密合性(adhesion property)。

发明内容

本发明提供一种感光性(photosensitive)聚硅氧烷组合物，其所形成的保护膜与被保护元件之间具有良好密合性。

本发明提供一种感光性聚硅氧烷组合物，其包括含氮的杂环化合物(nitrogen-containing heterocyclic compound)(A)、聚硅氧烷(B)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(o-naphthoquinonediazidesulfonate)(C)以及溶剂(D)。含氮的杂环化合物(A)选自由式(1)至式(4)所表示的化合物所组成的族群：

其中，式(1)至式(4)中，X¹与X²各自独立表示氢原子、酰基(acyl group)或烷基；R¹至R⁹各自独立表示氢原子、羟基(hydroxy group)、羧酸基(carboxyl group,-COOH)、磺酸基(sulfo group,-SO₃H)、烷基、氨基(amino group)、卤素原子或巯基(mercapto group,-SH)；m、n、q、s各自独立表示选自0、1、2、3的整数；p、r各自独立表示选自0、1、2的整数；t、u各自独立表示选自0、1、2、3、4的整数。

在本发明的一实施例中，所述的聚硅氧烷(B)是由式(5)所示的化合物聚合来形成：

Si(R¹⁰)W(OR¹¹)4-W

式(5)

其中，在式(5)中，R¹⁰表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基(alkenyl)、碳数为6至15的芳香基(aryl group)、含有酸酐基的烷基、含有环氧基(epoxy group)的烷基或含有环氧基的烷氧基(alkoxy group)；R¹¹各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基；w表示选自0、1、2、3的整数。

在本发明的一实施例中，所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中基于聚硅氧烷(B)100重量份，含氮的杂环化合物(A)的含量是0.005重量份至5重量份；邻萘醌二叠氮磺酸酯(C)的含量是1重量份至50重量份；溶剂(D)的含量是50重量份至1200重量份。

本发明还提供一种保护膜，其包括上述的感光性聚硅氧烷组合物。

本发明更提供一种具有保护膜的元件，其包括元件以及上述保护膜，其中上述保护膜覆盖在上述元件上。