[发明专利]荧光猝灭体系用于潜在指纹显现的方法

权利要求书

1.一种荧光猝灭体系用于潜在指纹显现的方法，其步骤如下：

先制备荧光猝灭体系，所述荧光猝灭体系的猝灭状态可被指纹成分破坏；然后将其喷、涂到各种物品上，有指纹的部分，指纹成分破坏所述荧光猝灭体系的猝灭状态，使荧光再现从而显现指纹；

所述的荧光猝灭体系包括荧光物质和能够将荧光物质的荧光猝灭的物质。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：

所述荧光物质包括能够受激发光的量子点、碳点、荧光素、染料、席夫碱类化合物、芳香族氨基酸、钙黄绿素蓝、聚乙烯吡咯烷酮、8-羟基喹啉铝、二苯乙烯荧光蓝-S、水杨基荧光酮、诺氟沙星、苯基荧光酮。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：

所述量子点包括修饰或者不修饰的氧化锌、硫化锌、二氧化钛、硒化镉、硫化镉、碲化镉。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：

所述量子点表面使用巯基乙酸、DNA、RNA、氨基酸、蛋白质或酶进行修饰。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：

所述荧光素为荧光素、5-羧基荧光素、6-羧基荧光素中的一种或两种以上的任意比例混合物。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：

所述能够将荧光物质的荧光猝灭的物质包括纳米金、纳米银、银离子、量子点、铜离子、镍离子、锌离子、铁离子、钼（Ⅵ）离子、碳点、DNA、RNA、氨基酸、蛋白质、酶、抗坏血酸、锰离子。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于：

所述纳米金表面使用巯基乙酸、DNA、RNA、氨基酸、蛋白质或酶进行修饰。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：

所述荧光猝灭体系选自纳米金-荧光素荧光猝灭体系、水溶性CdTe量子点-银离子荧光猝灭体系、碳点-铜离子荧光猝灭体系、硫化锌量子点-镍离子荧光猝灭体系、纳米银-染料荧光猝灭体系、纳米银-荧光素荧光猝灭体系、纳米银-荧光染料曙红Y荧光猝灭体系、纳米银-聚乙烯吡咯烷酮荧光猝灭体系、纳米银-8-羟基喹啉铝荧光猝灭体系、纳米银-诺氟沙星荧光猝灭体系、铜离子-席夫碱类化合物荧光猝灭体系、芳香族氨基酸-抗坏血酸荧光猝灭体系、钙黄绿素蓝-锰离子荧光猝灭体系、镍离子-吖啶橙-曙红Y荧光猝灭体系、锌离子-二苯乙烯荧光蓝-S荧光猝灭体系、铁离子-二苯乙烯荧光蓝-S荧光猝灭体系、钼（Ⅵ）离子-水杨基荧光酮荧光猝灭体系或锰（Ⅱ）离子-苯基荧光酮荧光猝灭体系。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于：

所述荧光猝灭体系选自纳米金-荧光素荧光猝灭体系、纳米银-荧光素荧光猝灭体系、水溶性CdTe量子点-银离子荧光猝灭体系、碳点-铜离子荧光猝灭体系。