[发明专利]荧光猝灭体系用于潜在指纹显现的方法有效
申请号: | 201410146802.3 | 申请日: | 2014-04-13 |
公开(公告)号: | CN103919558A | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 王利华;胡军成;陈欢;黄正喜 | 申请(专利权)人: | 中南民族大学 |
主分类号: | A61B5/117 | 分类号: | A61B5/117 |
代理公司: | 武汉宇晨专利事务所 42001 | 代理人: | 余晓雪;王敏锋 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 体系 用于 潜在 指纹 显现 方法 | ||
技术领域
本发明涉及痕量检测技术领域,具体涉及一种荧光猝灭体系用于潜在指纹显现的方法,该方法为一种利用荧光猝灭体系的“turn-on”效应即重新发出荧光而显现出潜在指纹的方法。
背景技术
指纹具有“因人而异、终身不变”的特点,据此可以锁定涉案人员,曾是“证据之王”。目前因为DNA技术的发展和普及,指纹与DNA并列“证据之王”。2012年5月30日,新修订的《居民身份证法》明确规定居民身份证登记项目包括指纹信息,2013年1月我国全面启动身份证登记指纹信息和停用一代证。因此,潜在指纹显现技术的研究仍然具有重要的应用价值。
室温下,能够在几分钟内显现潜在指纹的方法主要有粉末法、502熏(贴)显法、硝酸银法,这些方法各有其最佳应用领域,也有相应的缺点和局限。近年来,人们将纳米金属、量子点等新型材料试用于潜在指纹显现,这些材料通过与指纹成分的静电吸引、化学反应等作用,可以在指纹上富集或者沉积,在自然光或者特定波长的光照射下,显现出更加清晰的指纹。例如专利申请200910066558“金纳米粒子一步显现潜指纹”的方法,发明人使用葡萄糖修饰的金纳米粒子或蔗糖修饰的金纳米粒子,在一定的pH范围内与潜指纹中的成分发生相互作用,诱导金纳米粒子的沉积析出,从而清晰有效地显现潜指纹纹线。该方法简化了显现步骤,实现了一步显现潜指纹。在专利申请200710055254.3“显现潜在指纹的方法及其显现系统”中,发明人制备了CdTe荧光纳米粒子,利用ICP玻璃高效雾化器或超声雾化器将荧光纳米粒子溶液喷附到载有指纹的指纹载体表面,再用氰基丙烯酸酯熏蒸指纹载体表面形成指纹的加固膜以及采用紫外线荧光照相法获取荧光指纹图像,这些新方法也各有利弊。
我们注意到,已经有人先制备出荧光猝灭体系,然后将其与某种物质例如氯离子、葡萄糖等进行反应,利用荧光猝灭体系被破坏后发出的荧光即“turn-on”(荧光开关,荧光增强型)效应进行含量的分析。相对于荧光逐步猝灭的过程,“turn-on”效应更加明显,因为在一个黑暗的房间内开灯,即使灯光不强,其效果肯定比将已开着的灯光调暗更加明显。据此我们建立了自己的新思路:制备各种荧光猝灭体系,将其与指纹接触,当荧光猝灭体系被指纹成分破坏后,重新发出的荧光即可显现指纹。
经过试验,我们的设想得到了验证,目前该方法尚未见报道。
发明内容
针对现有技术中存在的不足,本发明的目的在于提供了一种荧光猝灭体系用于潜在指纹显现的方法,该方法能在常温下几分钟内快速显现或者“标记”出各种物品上的指纹。
本发明的一种荧光猝灭体系用于潜在指纹显现的方法的步骤如下:
先制备荧光猝灭体系,所述荧光猝灭体系的猝灭状态可被指纹成分破坏;然后将其喷、涂到各种物品上,有指纹的部分,其中的氯离子、氨基酸或者葡萄糖等指纹成分破坏所述荧光猝灭体系的猝灭状态,使荧光再现从而显现指纹;在特殊光照下透过滤光片或者在自然光照下直接拍照;
所述的荧光猝灭体系包括荧光物质和能够将荧光物质的荧光猝灭的物质;
所述荧光物质包括能够受激发光的量子点、碳点、荧光素、染料、席夫碱类化合物、芳香族氨基酸、钙黄绿素蓝、聚乙烯吡咯烷酮、8-羟基喹啉铝、二苯乙烯荧光蓝-S、水杨基荧光酮、诺氟沙星、苯基荧光酮等;
所述量子点包括修饰或者不修饰的氧化锌、硫化锌、二氧化钛、硒化镉、硫化镉、碲化镉等;
所述的量子点表面可以使用巯基乙酸、DNA、RNA、氨基酸(例如L-半胱氨酸等)、蛋白质、酶等进行修饰;
所述荧光素包括荧光素(CAS:2321-07-5)、5-羧基荧光素(5-FAM)和6-羧基荧光素(6-FAM)中的一种或两种以上的任意比例混合物;
所述能够将荧光物质的荧光猝灭的物质包括纳米金、纳米银、银离子、量子点、铜离子、镍离子、锌离子、铁离子、钼(Ⅵ)离子、碳点、DNA、RNA、氨基酸(如L-半胱氨酸)、蛋白质、酶、抗坏血酸、锰离子等;
所述纳米金表面可以使用巯基乙酸、DNA、RNA、氨基酸(L-半胱氨酸)、蛋白质、酶等进行修饰。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中南民族大学,未经中南民族大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410146802.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。