[发明专利]同步快速真空工艺的设备

权利要求书

1.一种同步快速真空工艺的设备，其特征在于，包括有：

一工艺装置，包括一真空腔体、一传动单元、一升降单元以及两工艺单元，其中，该真空腔体为中空状且保持恒定真空状态，该真空腔体包括一取放开口，该取放开口贯穿该真空腔体的一侧，该传动单元设置于该真空腔体内且包括一载盘、一驱动件以及两载具，该载盘设置于该真空腔体内且包括两间隔设置贯穿该载盘的载盘孔，各该载盘孔择一地对合该取放开口，该驱动件连动于该载盘，各该载具选择性地被承载于该载盘，且各该载具的尺寸大于各该载盘孔的尺寸，该升降单元设置于该真空腔体且包括一中间升降机构，该中间升降机构设置于该真空腔体且对应该取放开口处，该中间升降机构选择性地顶撑各载具穿过各该载盘孔，各该工艺单元设置且连通于该真空腔体；

一入料传送机构，其设置于该真空腔体的一侧；

一出料传送机构，其设置于该真空腔体远离该入料传送机构的一侧；

一取放机构，其设置于该真空腔体且包括一移动轨道以及一取放臂，该移动轨道架设于该真空腔体，该取放臂能够移动地设置于该移动轨道且包括两升降吸盘，各该升降吸盘分别设置于该取放臂的两端，各该升降吸盘根据该取放臂的移动位置分别择一地对应该入料传送机构与该出料传送机构其中之一，以及该取放开口，各该升降吸盘的尺寸大于该取放开口的尺寸，各该升降吸盘选择性地封闭该取放开口；以及

一独立腔体，其选择性地被其中一升降吸盘、其中一载具以及该取放开口封闭形成，该独立腔体与该真空腔体相互隔离。

2.根据权利要求1所述的同步快速真空工艺的设备，其特征在于，该升降单元进一步包括两侧升降机构，各侧升降机构设置于该真空腔体且分别对应于各该工艺单元处，各侧升降机构选择性地穿过各载盘孔并顶撑相对应的载具。

3.根据权利要求2所述的同步快速真空工艺的设备，其特征在于，各侧升降机构进一步包括一顶盘，各顶盘设置于各侧升降机构的顶部，该中间升降机构亦进一步包括一设置于该中间升降机构顶部的顶盘，各侧升降机构与该中间升降机构是以各顶盘顶撑各载具。

4.根据权利要求3所述的同步快速真空工艺的设备，其特征在于，各顶盘与各载具之间设有一个以上相对应凹凸匹配的定位点与定位部。

5.根据权利要求4所述的同步快速真空工艺的设备，其特征在于，该载盘与各该载具之间设有一个以上相对应凹凸匹配定位部与定位柱。

6.根据权利要求1至5中任意一项所述的同步快速真空工艺的设备，其特征在于，该传动单元设有一个以上的导引轨道，该载盘被承载于该一个以上的导引轨道，且被该驱动轨道沿着该一个以上的导引轨道的轴向移动。

7.根据权利要求6所述的同步快速真空工艺的设备，其特征在于，该传动单元进一步包括一个以上的导引块，该一个以上的导引块滑动地设置于该载盘与该一个以上的导引轨道之间。