[发明专利]一种紫外发光二极管在审
申请号: | 201410163987.9 | 申请日: | 2014-04-22 |
公开(公告)号: | CN103928579A | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 张雄;梁天慧;崔一平 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 黄成萍 |
地址: | 211189 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 紫外 发光二极管 | ||
技术领域
本发明涉及一种紫外发光二极管,属于发光二极管(LED)芯片制备技术。
背景技术
LED是一种新型固体光源,与传统荧光灯、白炽灯相比,它具有节能、环保、寿命长、体积小等优点。近年来,波长在220~350nm的深紫外LED,因其在空气净化、信息安全、生物医疗等领域的广泛应用潜力,受到世界的普遍关注。
与可见光LED相比,深紫外LED本身及其制备技术还存在许多问题。近年来,有研究者利用金属表面等离子激元技术来增强可见光LED的内量子效率,得到了很显著的效果,但由于下述原因,尚未在紫外LED上得到应用。
表面等离子体激元效应(surface plasmon resonance,SPR)是指当特定波长的光照射到金属时,金属中的电子将在电场的作用下发生集体振荡。如果将金属制备成纳米颗粒,当特定波长的光照射到金属纳米颗粒上时,金属纳米颗粒中的电子将产生集体振荡,而这种振荡将被局限在相应的纳米颗粒中,称之为局域表面等离子体振荡(local surface plasmon resonance,LSPR)效应。相比于SPR效应,由于金属纳米颗粒的表面曲率半径极小,LSPR效应可以使得金属纳米颗粒表面附近空间中的局域电磁场得到极大地增强,这种效应最显著的光学表现就是增强光散射和光吸收,从而使金属纳米颗粒的吸收谱中产生强烈的共振吸收峰。LSPR共振吸收峰的峰值对应波长对于纳米颗粒的大小、形状、颗粒间的间距、介电环境和介电特性非常的敏感。
目前表面等离子体在LED领域应用比较广泛的金属是金和银,它们与量子阱耦合的范围均为可见光波段,对紫外光的增强效果不明显。对于深紫外LED,有报道称在p型GaN上镀一层铝膜可以有效地提高出光效率,但由于p型GaN的厚度远远大于金属与量子阱的耦合厚度,所以作者将这种增强归结于对外量子效率的增强。为了利用表面等离子效率增强内量子效率,必须使金属与量子阱的耦合厚度小于p型GaN的厚度,但为了得到良好的欧姆接触,p型GaN的厚度又不能太薄,这就要求我们对现有的深紫外LED结构加以改进。
当表面等离子体激元靠近量子阱时(100nm以内),会与量子阱中的电子空穴对产生振荡耦合,从而加快量子阱中电子与空穴的辐射复合速率,据推算可以达到原来的数十倍之多,从而能大大提高LED的内量子效率(IQE)。
发明内容
发明目的:为了克服现有技术中存在的不足,本发明提供一种紫外发光二极管,以了提高紫外LED的内量子效率,从而增强紫外LED的发光亮度;本发明为了充分利用表面等离子激元效应,采用在多重量子阱的上下两侧分别制备金属纳米颗粒构成的等离子激元层的独特结构,一方面可以克服现有技术中金属等离子激元与量子阱有源区相距较远,导致耦合效应较弱的缺点;另一方面,采用上下对称的金属等离子激元结构比现有的单侧金属等离子激元结构,能更加有效地与量子阱中的电子空穴对产生振荡耦合,从而大幅提高紫外LED的内量子效率。
技术方案:为实现上述目的,本发明采用的技术方案为:
一种紫外发光二极管,包括由下至上依次设置的衬底、AlN缓冲层、n型AlGaN层、第一金属层、多重量子阱层、第二金属层、电子阻挡层和p型层,在p型层的上表面的一部分区域设置一个p型金属电极,第一金属层设置在n型AlGaN层的上表面的一部分区域,在n型AlGaN层的上表面的另一部分区域设置一个n型金属电极。
所述第一金属层和第二金属层由金属纳米颗粒结构构成;可以是铝或其他金属的纳米颗粒结构,也可以是合金的纳米颗粒结构。所述金属纳米颗粒结构按阵列排布形成第一金属层和第二金属层,金属纳米颗粒结构阵列可以是周期性分布或非周期性分布的,也可以是图形化阵列或其他一些形状。通过调节金属纳米颗粒结构的尺寸、金属纳米颗粒结构阵列的排列密度和形状尺寸,可以对不同发光波长的深紫外发光二极管的内量子效率进行优化。
优选的,所述第一金属层和第二金属层通过真空电子束蒸镀方法分别制备在n型AlGaN层和多重量子阱层的上表面上。
优选的,所述多重量子阱层(5)的第一层垒的厚度为10~100nm。
优选的,所述p型层(8)为p型AlGaN、p型GaN、p型InAlGaN或其他。
优选的,所述电子阻挡层(7)为AlGaN、InAlGaN及其超晶格结构或其他。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410163987.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体存储装置
- 下一篇:管理存储器装置的行为的方法和设备