[发明专利]可简化数组制程工序的微影成形方法

权利要求书

1.一种可简化数组制程工序的微影成形方法，其特征在于包含：

连续涂布光阻剂步骤，于一玻璃基板上依序层迭涂布复数不同的光阻剂，各光阻剂的感光条件不同，且于在先涂布的光阻剂干燥后才涂布另一种光阻剂；

曝光步骤，透过一光罩对已涂布不同光阻剂的玻璃基板进行曝光并使该光罩上的图形转移至光阻剂上，不同的光阻剂便能与该光罩的光源产生不同的感光反应，并在同一曝光步骤下产生不同反应；

显影步骤，对曝光后的光阻剂进行显影；

养护步骤，透过烘烤使显影后的图形部分稳固地结合于该玻璃基板上；以及

蚀刻步骤，透过蚀刻工法形成不同锥形体。

2.如权利要求1所述的可简化数组制程工序的微影成形方法，其特征在于：光阻剂干燥的方式可为真空减压干燥或热板烘烤。

3.如权利要求1所述的可简化数组制程工序的微影成形方法，其特征在于：所述连续涂布光阻剂步骤为于该玻璃基板上依序层迭涂布两种不同的光阻剂，依序经过所述曝光步骤、显影步骤、养护步骤及所述蚀刻步骤后形成像素隔离层及间隔子。