[发明专利]可简化数组制程工序的微影成形方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学领域，尤其涉及一种可简化数组制程工序的微影成形方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)，具有轻薄、高分辨率、高反应速度、画质优良之特点，因此已被广泛运用于各种显示设备中，而其基本结构为两片玻璃基板中间设置一层液晶，上方玻璃基板制作成彩色滤光片(Color Filter，CF)，下方玻璃基板上则制作一包含一像素隔离层(Pixel Define Layer，简称PDL薄膜晶体管数组(TFT Array)，而两基板之间则成形复数间隔子(Spacer)以维持两基板之间的间距(Cell Gap)；

而上述制作薄膜晶体管数组及间隔子的制程均属TFT-LCD的第一生产制程-薄膜晶体管数组制程(TFT Array Process)，也可简称为数组制程(Array Process)，于此制程主要是于玻璃基板上透过重复施作镀膜、曝光、显影、蚀刻的微影制程制成该薄膜晶体管数组及间隔子，整体工序复杂、费时且成本极高；

而以目前业界的制程来说，于形成该薄膜晶体管数组的像素隔离层及该间隔子的方式均是分别使用两道光罩进行两次的微影制程所制成，除了必须分别制作光罩而使得光罩成本居高不下之外，分别的微影制程具有不同的制程参数，例如软烤温度及时间、显影时间均为不同，因此必须以两道完全不同的参数进行制作，而本发明人潜心研究并更深入构思，认为此制程仍有更简化工序的必要，因此在历经多次研发试作后，终于发明出一种可简化数组制程工序的微影成形方法。

发明内容

本发明提供一种可简化数组制程的微影成形方法，其主要目的是改善一般数组制程的工序繁杂且成本高昂的缺失。

为达到上述目的，本发明提供一种可简化数组制程的微影成形方法，包含：

连续涂布光阻剂步骤，于一玻璃基板上依序层迭涂布复数不同的光阻剂，各光阻剂的感光条件不同，且在先涂布的光阻剂干燥后才涂布另一种光阻剂；

曝光步骤，透过一光罩对已涂布不同光阻剂的玻璃基板进行曝光并使该光罩上的图形转移至光阻剂上，不同的光阻剂便能与该光罩的光源产生不同的感光反应，并在同一曝光步骤下产生不同反应；

显影步骤，对曝光后的光阻剂进行显影；

养护步骤，透过烘烤使显影后的图形部分稳固地结合于该玻璃基板上；以及

蚀刻步骤，透过蚀刻工法去除不需要的图样，并形成不同锥形体。

本发明通过连续涂布具有不同感光条件的光阻剂，配合单一光罩进行曝光，使同一光源分别与不同的光阻剂产生作用，而能同时形成不同的锥形体，从而降低光罩的制作费用、成形不同锥形体的工序，提高制程效率及经济效益。

附图说明

图1为本发明可简化数组制程工序的微影成形方法的步骤流程图。

图2为以本发明可简化数组制程工序的微影成形方法制成的成品结构态样。具体实施方式

下面结合附图以及具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

本发明可简化数组制程工序的微影成形方法的较佳实施例如第1图所示，含：

连续涂布光阻剂步骤10，于一玻璃基板上依序层迭涂布两种或两种以上不同的光阻剂(Photoresist)，各光阻剂的感光条件不同，且在涂布一种光阻剂之后必须使先涂布的光阻剂干燥后才能进行下一种光阻剂的涂布，从而避免不同的光阻剂之间产生融合的现象发生；而使该光阻剂干燥的方式可为真空减压干燥或热板烘烤；

曝光步骤20，透过一光罩对已涂布不同光阻剂的玻璃基板进行曝光并使该光罩上的图形转移至光阻剂上，则不同的光阻剂便能与该光罩产的光源产生不同的感光反应，本实施例是于玻璃基板上涂布一第一光阻剂A及一第二光阻剂B，并在同一曝光步骤下产生不同反应；

显影步骤30，对曝光后的光阻剂进行显影；

养护(Curing)步骤40，透过烘烤使显影后的图形部分稳固地结合于该玻璃基板上；以及

蚀刻步骤50，透过蚀刻工法去除不需要的图样，并成为如图2所示的成形态样，即能在同一曝光步骤下形成不同锥形体(Taper)，以本实施例来说，该第一光阻剂A成形为像素隔离层(Pixel Define Layer，简称PDL)a，而第二光阻剂B成形为间隔子(Spacer)b，如图2所示。

以上为本发明可简化数组制程工序的微影成形方法的流程步骤，本发明主要于玻璃基板上同时涂布具有不同感光条件的光阻剂，便能以同一光罩进行同一曝光及显影步骤后同时形成不同椎体形态之像素隔离层(Pixel Define Layer，简称PDL)及间隔子(Spacer)，因此，本发明能确实降低光罩的制造数量及成本，更能大幅减少数组制程(Array)的工序、降低各工序所需成本之外，在减少工序的同时又能提高整体制程效率、降低各工序间的影响、提高产品良率，整体来说能确实提高经济效益。