[发明专利]玻璃基板内部缺陷检查系统及所处高度位置的检查方法

权利要求书

1.玻璃基板内部缺陷检查系统，包括处在传送装置上的玻璃基板（3），其特征在于：还包括对称设置在玻璃基板（3）上下两侧的光源发射装置（A，B）、与光源发射装置（A，B）配套的采集成像装置及与采集成像装置相连接的装有控制管理程序的工控机（5）。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板内部缺陷检查系统，其特征在于：所述光源发射装置（A，B）为激光光源或LED聚光光源，所述光源发射装置（A，B）的光线发射方向与玻璃基板（3）平面夹角α不大于45°。

3.根据权利要求2所述的玻璃基板内部缺检查系统，其特征在于：所述采集成像装置采用线阵相机，线阵相机的镜头（2，4）的光轴与玻璃基板（3）的平面夹角与夹角α适配。

4.一种基于权利要求1所述的检查系统、对玻璃基板内部缺陷所处高度位置的检查方法，其特征在于：包括以下步骤：

a、玻璃基板（3）沿传送方向传输、至检查系统的采集成像区域时，启动系统发射扫描光束、对玻璃基板（3）扫描、线阵相机同步照相采样并将数据传送到工控机；

b、工控机（5）中的管理软件对取像结果进行分析对比，发现玻璃基板（3）中有缺陷（1），借助设计好的分析程序得出缺陷（1）所处玻璃基板（3）的厚度中高度位置，缺陷的大小和其它相关数据；

c、调取存储在工控机中的经验数据进行比对，判断产品是否合格，记录缺陷的位置，判定基板的等级。

5.根据权利要求4所述的玻璃基板内部缺陷所处高度位置的检查方法，其特征在于：步骤a中线阵相机分别从玻璃基板（3）的上方和下方取像，取像时玻璃基板（3）一直沿传送方向输送。

6.根据权利要求4所述的玻璃基板内部缺陷检查方法，其特征在于：步骤b中工控机（5）中的管理软件中包括图形分析软件，从成像数据的分析中得出相关的缺陷数据、包括缺陷的几何尺寸、体积范围、所处高度。

7.根据权利要求6所述的玻璃基板内部缺陷所处高度位置的检查方法，其特征在于：所述缺陷的所处高度采用以下经验公式进行处理：h=（vt+T）/2，公式中h是缺陷在玻璃基板（3）的高度位置，v是玻璃基板（3）的传送速度，t是对缺陷取像的时间差，T是玻璃基板（3）的厚度。