[发明专利]玻璃基板内部缺陷检查系统及所处高度位置的检查方法在审
申请号: | 201410167268.4 | 申请日: | 2014-04-24 |
公开(公告)号: | CN104655646A | 公开(公告)日: | 2015-05-27 |
发明(设计)人: | 王建鑫;李杰;周波;王丽红 | 申请(专利权)人: | 东旭集团有限公司 |
主分类号: | G01N21/89 | 分类号: | G01N21/89;G01N21/01 |
代理公司: | 石家庄众志华清知识产权事务所(特殊普通合伙) 13123 | 代理人: | 王苑祥 |
地址: | 050000 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 内部 缺陷 检查 系统 高度 位置 方法 | ||
技术领域
发明属于玻璃基板检测技术领域,具体涉及一种可以检查透明玻璃基板内部缺陷检查系统及所处高度位置的检查方法,即在玻璃基板被输送运动的情况下,对玻璃基板的内部缺陷所处玻璃基板高度位置进行精确的检查。
背景技术
为保证玻璃基板符合客户的质量要求,需对其进行内部缺陷检验工序。不仅要检查玻璃基板内部缺陷的种类、尺寸和位置,并且按照质量要求,需要确定内部缺陷所处玻璃基板厚度方向的高度位置,以满足下游客户对产品的质量要求。现有方案,基于光源、摄像机和软件的检查设备,需要由面检机和复检机共同才能完成上述功能,其面检机可以在玻璃基板运动的情况下实现以下功能包括:对缺陷进行自动分类、位置坐标和尺寸的测量;而复检机需要将玻璃基板静止,其照明方式为透射明场照明,通过高像素面阵相机和小景深镜头的配合,对玻璃基板内部缺陷进行取像,通过镜头调焦的距离,计算确定缺陷所处玻璃基板厚度方向的高度位置;经过上述面检机和复检机的共同作用完成玻璃基板的内部缺陷检查。
现有技术中至少存在以下技术问题:
1、利用原来方案,上述功能需要由面检机和复检机共同作用才能完成,不仅增加了检查工序、检查设备数量及成本,而且在复检工位需要玻璃基板静止才能对其进行检查,为缩短产线节拍,只能在此工位进行抽检,因此延长了玻璃基板检查区段的节拍,也降低了对产品的检查效率。
2、在复检工位,由于玻璃基板厚度较薄,相机的镜头景深需要非常精确,因此加工费用非常昂贵。
发明内容
本发明提供了一种玻璃基板内部缺陷检查系统及所处高度位置的检查方法,通过在玻璃基板上方和下方对缺陷取像,并经软件分析缺陷所处玻璃基板中高度位置来判断该玻璃基板是否合格,整个检查系统不仅提高了玻璃基板检查的自动化程度,同时进一步降低成本、提高了产能。
为达到发明目的,本发明采用的技术方案是:玻璃基板内部缺陷检查系统,包括处在传送装置上的玻璃基板,其关键在于:还包括对称设置在玻璃基板上下两侧的光源发射装置、与光源发射装置配套的采集成像装置及与采集成像装置相连接的装有控制管理程序的工控机。
进一步的,所述光源发射装置为激光光源或LED聚光光源,所述光源发射装置的光线发射方向与玻璃基板平面夹角α不大于45°。
进一步的,所述采集成像装置采用线阵相机,线阵相机的镜头的光轴与玻璃基板的平面夹角与夹角α适配。
本发明还提供一种玻璃基板内部缺陷所处高度位置的检查方法,其包括以下步骤:
a、玻璃基板沿传送方向传输、至检查系统的采集成像区域时,启动系统发射扫描光束、对玻璃基板扫描、线阵相机同步照相采样并将数据传送到工控机;
b、工控机中的管理软件对取像结果进行分析对比,发现玻璃基板中有缺陷,借助设计好的分析程序得出缺陷所处玻璃基板的厚度中高度位置,缺陷的大小和其它相关数据;
c、调取存储在工控机中的经验数据进行比对,判断产品是否合格,记录缺陷的位置,判定基板的等级。
步骤a中线阵相机分别从玻璃基板的上方和下方取像,取像时玻璃基板一直沿传送方向输送。
步骤b中工控机中的管理软件中包括图形分析软件,从成像数据的分析中得出相关的缺陷数据、包括缺陷的几何尺寸、体积范围、所处高度。
所述缺陷的所处高度采用以下经验公式进行处理:h=(vt+T)/2,公式中h是缺陷在玻璃基板的高度位置,v是玻璃基板的传送速度,t是对缺陷取像的时间差,T是玻璃基板的厚度。
本发明提供的技术方案可以产生以下有益效果:
1、通过设计检查系统,在相同的光源和照明方式下,对同一区域进行检测。将对同一缺陷检查结果的参数按照相关几何原理和光学知识,利用简单计算式,通过非常小的计算量,快速的确定玻璃基板的内部缺陷所处玻璃基板厚度方向的高度位置;
2、本发明可以将面检机和复检机两台设备整合为一台设备,在玻璃运动基板状态下,仍可完成玻璃基板的内部缺陷所处玻璃基板厚度方向的高度位置,完善了检查系统的功能及提高检查设备自动化程度,同时进一步降低成本、提高产能。
下面结合附图对本发明进行详细说明。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本申请的一部分,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1是本发明实施例一的结构示意图;
图2是本发明实施例二的结构示意图。
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