[发明专利]用于浸没式曝光装置的物件表面形貌检测装置

说明书

本发明公开了一种用于浸没式曝光装置的物件表面形貌检测装置，包括：设置在曝光装置和被曝光物体之间的液体供给装置，所述液体供给装置内部为一空腔，所述空腔四周设置有若干与液体供给管路连通的小孔，液体通过所述小孔填充至液体供给装置与被曝光物体之间，所述液体供给管路上安装有液体压力传感器。本发明通过在曝光装置和被曝光物体之间设置一个液体供给装置，在液体供给装置的空腔周围设置若干小孔，每个小孔单独供给液体。通过液体压力传感器检测每个小孔的液体压力值，判断被测量物体表面与出液小孔的相对距离。通过该相对距离反映被测量物体表面的高度，将每个小孔内获得压力转换成高度值，模拟出被测量物体表面形貌。

技术领域

本发明涉及集成电路制造领域，特别涉及一种用于浸没式曝光装置的物件表面形貌检测装置。

背景技术

芯片制造业内，曝光装置(也称光刻机)普遍用于在衬底涂层上制作图形。在曝光装置进行曝光过程中，需要精确得到被曝光物体的表面形貌，以便将被曝光物体放置到最佳焦面位置，以获得最优良的曝光效果。目前，一般以晶片为材料，在晶片表面涂覆光刻胶进行图形制作。曝光装置利用自身的精密控制系统，将一定能量的特定波长光子投射到目标区域的光刻胶上。然后利用烘烤和显影的方法，获得所需要的图形。

为了精确测量被曝光物体的表面形貌，业内广泛采用以下两种解决方式：

一、光学式检测方法。即利用光线在被曝光物体表面的反射情况来判断其表面形貌；其测量精度达纳米级，但是由于空间及设计特性，其量程较小，在被测量物体形貌有较大变化时，无法进行测量；

二、气压式检测方法。即利用向被曝光物体表面喷射气流，由喷嘴和被测量物体表面距离发生变化而影响气流在喷嘴内的压力，检测喷嘴内的压力并换算，得到被测量物体表面形貌。与光学式检测方法相比，其测量精度较小，量程较大，仅能够适应被测量物体形貌有较大变化的情况。

目前，浸没式光刻技术已经在业内广泛应用。浸没式曝光装置对曝光材料的形貌要求更为严苛，利用上述两种检测形貌检测方法，检测过程中需要一定时间，将降低产率。此外，光学式检测方法的造价较高，而气压式检测方法在测量过程中气体容易出现压缩，导致气压测量不够准确的问题。

发明内容

本发明提供一种用于浸没式曝光装置的物件表面形貌检测装置，能够提高曝光装置的生产效率，无需另外设置新装置进行被曝光物体表面形貌测量，节约成本。

为解决上述技术问题，本发明提供一种用于浸没式曝光装置的物件表面形貌检测装置，包括：设置在曝光装置和被曝光物体之间的液体供给装置，所述液体供给装置内部为一空腔，所述空腔四周设置有若干与液体供给管路连通的小孔，液体通过所述小孔填充至液体供给装置与被曝光物体之间，所述液体供给管路上安装有液体压力传感器，通过液体压力传感器测得的液体压力获得被曝光物体表面高度。

作为优选，所述液体供给装置与被曝光物体被固定于一固定架上，且所述液体供给装置与被曝光物体之间的距离固定。

作为优选，所述液体供给管路与液体供给箱相连，为所述液体供给装置提供液体。

作为优选，所述液体供给装置的外侧还设置有液体回收环，所述液体回收环与液体回收箱连通，用于液体回收。

作为优选，液体回收环中的液体通过液体回收管流到所述液体回收箱中。

作为优选，每一个或多个小孔对应一路液体供给管路。

与现有技术相比，本发明具有以下优点：本发明通过在曝光装置和被曝光物体之间设置一个液体供给装置，在液体供给装置的空腔周围设置若干小孔，每个小孔单独供给液体。通过液体压力传感器检测每个小孔的液体压力值，判断被测量物体表面与出液小孔的相对距离。通过该相对距离反映被测量物体表面的高度，将每个小孔内获得压力转换成高度值，模拟出被测量物体表面形貌。

附图说明