[发明专利]一种绿色遮阳型镀膜玻璃及其制备方法有效
申请号: | 201410185844.8 | 申请日: | 2014-05-05 |
公开(公告)号: | CN105082670B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 田永刚 | 申请(专利权)人: | 福州新福兴玻璃有限公司 |
主分类号: | B32B17/06 | 分类号: | B32B17/06;C03C17/40 |
代理公司: | 北京元本知识产权代理事务所11308 | 代理人: | 喻蓉 |
地址: | 350015 福建省福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 绿色 遮阳 镀膜 玻璃 及其 制备 方法 | ||
1.一种绿色遮阳型镀膜玻璃,包括依次叠合的玻璃基片和金属膜层,其特征是:玻璃基片(1);
第一膜层(2),位于玻璃基片的表面,所述第一膜层为硅铝合金膜;
第二膜层(3),位于所述第一膜层的表面,所述第二膜层为镍铬合金膜;
第三膜层(4),位于所述第二膜层的表面,所述第三膜层为银膜;
第四膜层(5),位于所述第三膜层的表面,所述第四膜层为镍铬合金膜;
第五膜层(6),位于所述第四膜层的表面,所述第五膜层为硅铝合金膜。
2.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征是所述第一膜层的厚度为56.0-60.0nm;所述第二膜层的厚度为7.0-8.0nm;所述第三膜层的厚度为12.0-13.0nm;所述第四膜层的厚度为7.0-8.0nm;所述第五膜层的厚度为130.0-142.0nm。
3.如权利要求1或2所述的镀膜玻璃,其特征是在玻璃基片(1)的一个表面自下而上依次叠合所述第一硅铝合金膜层(2)、第二镍铬合金膜层(3)、第三银膜层(4)、第四镍铬合金膜层(5)、第五硅铝合金膜层(6)。
4.一种绿色遮阳型镀膜玻璃的制备方法,包括如下顺序进行的步骤:
1)烧结靶材
将硅铝合金、镍铬合金、银分别烧结在玻璃镀膜机的真空溅射室的靶位上,备用;
2)玻璃的预处理
将待镀膜处理的玻璃置于真空状态下,对待镀膜处理的玻璃进行排湿、脱气处理,降低玻璃表面沉积的水份和气体,制得排湿、脱气玻璃;
3)镀膜处理
将排湿、脱气玻璃送入玻璃镀膜机的真空磁控溅射室内,在排湿、脱气玻璃的表面自下而上依次镀覆第一硅铝合金膜层、第二镍铬合金膜层、第三银膜层、第四镍铬合金膜层、第五硅铝合金膜层。
5.如权利要求4所述的制备方法,其特征是步骤3)中所述第一硅铝合金膜层分两次镀覆处理而成。
6.如权利要求5所述的制备方法,其特征是所述第一硅铝合金膜层的第一次镀覆处理过程中真空磁控溅射电压为470.0-490.0V,电流为74.0-79.0A,功率为25.0-35.0Kw;第二次镀覆处理过程中真空磁控溅射电压为475.0-485.0V,电流为73.0-78.0A,功率为27.0-32.0Kw。
7.如权利要求4所述的制备方法,其特征是步骤3)中所述第五硅铝合金膜层分5次镀覆处理而成。
8.如权利要求4所述的制备方法,其特征是步骤3)中所述第二镍铬合金膜层的镀膜处理过程中真空磁控溅射电压为341.0-345V,电流为7.0-8A,功率为2.0-3.0Kw;所述第三银膜层的镀膜处理过程中真空磁控溅射电压为380.0-390.0V,电流为12.0-13.0A,功率为4.0-5.0Kw;所述第四镍铬合金膜层的镀覆过程中真空磁控溅射电压为338.0-342.0V,电流为7.5-8.2A,功率为2.2-3.0Kw。
9.如权利要求4或5所述的制备方法,其特征是步骤2)中所述排湿、脱气处理是将待镀膜玻璃分2个处理阶段降低玻璃表面沉积的水份和气体,制得所述的排湿、脱气玻璃。
10.如权利要求9所述的制备方法,其特征是,所述排湿、脱气处理过程中第一处理阶段中的绝对压力高于第二处理阶段中的绝对压力。
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